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在真空蒸镀多晶硅薄膜中掺入杂质可改善膜的微结构及电特性,目前有关基板距离对所得膜层的影响研究不多。采用真空蒸镀掺杂锗的方法制备出多晶硅薄膜;通过扫描电镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪等研究了基板距离对掺锗多晶硅薄膜的组织、形貌、晶粒尺寸及晶化率的影响。结果表明:随着基板距离的增大,薄膜的晶粒尺寸和晶化率均呈现出先增大后减小的相似趋势;当基板距离为90 mm时,晶粒尺寸显著增大,最大达到0.8μm左右,多晶硅薄膜晶粒形貌、结构性能最好,且具有较高的结晶度,薄膜的晶化率最高可达到85.10%。 相似文献
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1.前言仿花岗岩砖是目前建材行业较为高档的的墙地砖,是宾馆、饭店、营业办公大楼、城镇公共设施以及城乡居民住宅内外装饰的新型建筑材料。仿花岗岩於作大一种高级装饰材料,无论外观和内在都有较高的技术标准,该产品采用目前国际上较先进的欧州标准(EN),其工艺设计为元匣钵,快速一次快成的先进工艺。在坯体原料配方上,参照意大利提供的工艺要求,积极利用本地原料进行试验并对原料矿源送行调研。近年来,苏州高岭土矿由于开采条件受到限制,年产量只有最高年年量的一半,供应情况日趋紧张。而红旗厂引进线生产仿花岗岩砖中坯体配… 相似文献
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生产中熟砂岩中混入的耐火砖块可在玻璃板上形成铝硅质耐火材料结石,作者通过相图分析和相应的试验,论证了耐火砖颗粒的熔融温度,并从原料和熔化工艺角度出发提出了解决问题的方法和措施。 相似文献
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目的研究以三乙醇胺作为络合剂对化学镀Ni-W-P合金镀层的组织结构和腐蚀性能的影响。方法以化学镀的方法在40Cr基体上制备Ni-W-P合金镀层,研究了三乙醇胺对Ni-W-P合金镀层的成分结构、沉积速率、耐蚀性和孔隙率的影响。结果三乙醇胺用量为8 m L/L时镀层W、P质量分数达到峰值,分别为3.63%、9.34%。三乙醇胺用量较低时,镀层具有非晶态结构;三乙醇胺用量达到12 m L/L时镀层开始出现晶态峰,具有混晶态结构。三乙醇胺浓度对镀层的沉积速率和孔隙率具有很大影响,三乙醇胺用量为10 m L/L时,镀速达到最大值14.1μm/h,用量为8 m L/L时,镀层的孔隙率最低,为0.07%。化学镀Ni-W-P合金镀层的耐蚀性随着三乙醇胺浓度的增加,具有先增加后降低的趋势,用量为8 m L/L时,镀层的腐蚀速率最低,为5.6μm/a,耐蚀性最好。结论以三乙醇胺作为络合剂能够得到胞状颗粒且颗粒均匀细小的Ni-W-P合金镀层,对镀层的结构具有一定的影响,可以提高Ni-W-P合金镀层的沉积速率。Ni-W-P合金镀层具有很好的耐蚀性,腐蚀速率最低为5.6μm/a。 相似文献
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