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用直流溅射法在聚酰亚胺(PI)基底上制备了300nm厚的Al膜,并进行快速退火(RTA)处理。用X射线衍射、扫描电子显微镜和曲率法对Al薄膜的微结构及应力随退火温度和时间的变化进行了研究。结果表明,采用快速退火可以使其压应力松弛,甚至转变成张应力。 相似文献
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c—BN薄膜研究进展 总被引:3,自引:0,他引:3
立方氮化硼(c- BN) 在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能,因此世界上有很多研究人员从事c- BN 薄膜制备的研究,近年来薄膜沉积技术和c- BN 薄膜质量都已取得显著进步。介绍c - BN 薄膜的用途、结构、制备方法及存在的问题。重点总结了控制c- BN 相形成的关键因素及c- BN 相形成机理。 相似文献