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砂岩酸化中水化硅沉淀的影响因素分析 总被引:1,自引:0,他引:1
讨论了砂岩酸化中产生水化硅沉淀的反应机理。使高岭土与1.0%HF和多种配比的HCl HF在不同温度(20-90℃)反应不同时间(10-300分钟),用等离子吸收光谱法(ICP)测定酸液中可溶性硅的浓度(mg/L),取某时段测定值的减小量为该时段水化硅沉淀生成量,讨论了多种因素的影响,得到了如下结果和结论。反应温度越高,则高岭土与HF之间的反应越快,形成水化硅沉淀的时间越短,最终生成的沉淀量越大;在HF中加入HCl(使用土酸体系)、减小土酸中HF质量分数、加大土酸中HCl、HF质量分数比,均可使生成沉淀时间延后,使最终生成沉淀量减少。60℃时300分钟沉淀量,在1.0%HF、5.0%HCl 1.0%HF、9.0%HCl 1.0%HF中分别为482、321、201mg/L。提出了在酸化设计与施工中可以采取的6条简便易行的减少水化硅沉淀量的措施。图4表1参6。 相似文献
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1 引言多年来 ,欧盟与各国政府都不断地加强有关污水处理的法规 ,法规规定产生污水的企业必须在排放污水前加以处理。然而 ,在许多场合 ,由于至今尚无令人满意的方法来彻底净化污水 ,而且只要这些生产企业正在认真地寻找解决问题的方法 ,这些规定也不是一概而论的。因此 ,在实施法规的过程中就导致了某种程度的宽松度。这些情况将会结束 ,在不久的将来 ,这些法规将会得到强有力的执行。现在大多数公司的环境问题很严重 ,当然污水处理也确实有其商业上的原因。最主要的是这些公司除非找到一个可行的处理污水的方法 ,否则不允许他们继续生产… 相似文献
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发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。 相似文献
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本文提出一种基于线性啁啾光纤光栅补偿偏振模色散的新方案,对光纤光栅由于挤压而产生的群时延差进行了理论计算,并实验测量了一被挤压的线性啁啾光纤光栅的两偏振方向的群时延曲线,测量的结果证明这种方案切实可行。 相似文献
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作为国际特品公司在皮肤脂质类似体领域推出的最新原料,在具有良好的安全性能的同时,Ceraphyl(r)RM能以与皮肤角质层中神经酰胺和甾醇同样的作用方式和脂肪酸形成有序的脂质结构。当被应用于洗去型个人护理产品配方时,它能提供良好的长效保湿功能。同时,皮肤外观和纹理也能得到明显的改善。 相似文献
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