Bioeffects of Low Energy Ion-Beam Implantation and Vacuum Treatment on M1 Arabidopsis Thaliana

Vacuum treatment and ion-beam bombardment are two major processes in the low energy ion-beam implantation. To accurately study the contributions of these two major factors to the bioeffects separately, the M1 generation variation of Arabidopsis thaliana with ion-beam implantation and vacuum treatment were compared through a series of key plant development parameters including morphological observation, biochemical assay and RAPD （random amplified polymorphic DNA） analysis. The results showed that ion-beam implantation had obvious effect on almost all of these parameters, and the vacuum treatment had some impacts on several morphological parameters such as the bolting time and the length of the primary stem. Taking the results together, the indication is that vacuum treatment has some slight contributions to the bioeffects of ion-beam implantation while ion-beam bombardment itself is the major creator of the bioeffects.     

等离子电视机的基础知识问与答

什么是等离子电视?它和我们普遍使用 的CRT电视机有何异同? 等离子电视的英文些缩写为PDP,台 湾又叫“电浆电视”。简单地说,PDP 是利用气体电离后产生的紫外线来 激发红、绿、蓝三种颜色的荧光粉,使其发光形成影像的一种新型电视机/显示设备。     

等离子体显示技术发展综述

等离子电视PDP(Plasma Dis—play Panel)技术可切分为五大技术模块：整机技术、电源技术、视端接口技术、驱动电路技术和等离子屏技术。其中驱动电路和显示屏是最难解决的两大问题。驱动电路属于技术密集型产品，技术突破难度很大；显示屏属于投资密集型产品，国内企业涉足等离子屏生产难度大。中国等离子     

先锋发布新一代等离子电视

2月26日,先锋电子(中国)投资有限公司广州办事处联合广州市泰时电子设备有限公司在广州万怡天伦酒店3楼举行先锋最新等离子电视新产品发布会。先锋新一代的等离于电视PDP-504HDC是先锋公司推出市场的第四代等离子电视,新产品比上一代的PDP-503有了长足的进步,其突出表现在运用了先锋己研制出的“Pure Drive”     

煤粉浓缩技术在等离子燃烧器改造中的应用研究

介绍了等离子点火技术用于清河电厂双进双出磨直吹式制粉系统的实例，分析撞击式离心分离浓缩装置的结构及采用该装置解决等离子点火煤粉浓度和速度问题。实际运行结果表明选型设计的等离子点灾装置和浓缩分离装置，能满足锅炉等离子冷态点火升温升压曲线的要求。     

同位素稀释质谱法测定高放废液中的铀

用双同位素稀释质谱法测定高放废液中的微量铀,采用TBP/Kel-F粉反相分配色层法分离铀,双稀释剂分别为浓缩~(235)U及~(238)U,铀同位素丰度比的质谱测定相对标准误差优于0.1%,化学处理及质谱测定全流程铀的空白值为3×10~(-9)g,方法检测限对于铀为1×10~(-9)g,高放废液中微量铀测定结果不确定度为±2%。     

一种新型润滑油添加剂的质谱研究

采用独特的分离方法和途径，综合使用多种质谱分析技术，如电子轰击谱（ＥＩ／ＭＳ）、场解吸谱（ＦＤ／ＭＳ）、快速原子轰击谱（ＦＡＢ／ＭＳ）、色／质联用等，对高档齿轮油的主剂－含磷极压剂的结构组成进行了较为详尽的分析研究，提出了复酯胺盐的结构组成。     

高频脉冲微束等离子电弧温度场的测试及分析

本文首次采用单波长激光干涉技术，对恒定直流和高频脉冲电流微束等离子电弧温度场进行了测试，并做了分析比较。以电弧温度分布为基础分析了高频脉冲电流微束等离子电弧收缩、稳定的原因。     

等离子氨化硅应力的研究

氮化硅的应力严重制约着它的应用，但常见资料对氨化硅应力的分析颇略。本文较详细地介绍了ＰＥＣＶＤＳｉｘＮｙ，薄膜应力大小与制备工艺的关系，从而揭示了能有效地抑制ＳｉｘＮｙ应力的工艺途径。文中给出了大量数据，对许多实际问题进行了讨论。