光学膜厚监控方法

光学膜厚监控方法是光学镀膜过程中用以控制光学薄膜光学厚度的主要方法,也是实现镀膜自动化的关键技术之一.了解光学膜厚监控方法的工作原理、特点及误差来源,有助于在实际应用中根据所镀产品的要求选择合适的光学监控方法及监控参数.文中针对最常用的两种光学膜厚监控方法一单波长法和宽光谱法,分别介绍其工作原理,给出了单波长下根据薄膜的透射率或反射率推算膜层厚度的计算方法以及宽光谱法所常用的3种评价函数,总结出影响单波长法测量的8种因素和宽光谱法的11种因素,并根据这些因素分析了这两种方法的特点和适用范围.     

索尼发表32″最节能液晶电视

索尼公司2008年6月17日发布了新款“BRAVIA”JE1系列产品（KDL-32JE1）,代表该行业的32″液晶电视的最高能源效率水平。索尼公司通过提高背光源发光效率和光学薄膜的光传输效率,在能源效率、年度能耗量（每年86千瓦时）、瞬时能耗量（89W）等方面达到了行业领先水平（日本能源节能标准的232％）。     

应力变化对多层薄膜窄带滤光片透射光谱的影响

利用薄膜应力公式和弹性力学的小挠度弯曲理论分析了在应力变化情况下,多层薄膜应变与膜厚变化的关系,并建立其数学模型,提出多层薄膜各层厚度变化的不均匀性理论.利用这个模型在应力减小200MPa条件下对138层4腔的100GHz滤光片光谱进行了模拟,与设计值比较发现中心波长增加了0.562nm;0.5dB处的带宽比设计值减小0.124nm;25dB处的带宽比设计值减小0.01nm;谱线矩形化变差;插损也有明显的增加.说明了应力变化引起的光学薄膜厚度变化的不均匀性是引起这种窄带干涉滤光片光谱退化的主要原因之一.实验结果为100GHz的窄带滤光片热处理后中心波长增加0.325nm;0.5dB处带宽减少0.01nm;20dB处带宽增加0.014nm;插损增加,谱线通带变形严重,纹波增大,光谱退化了.实验结果与理论分析一致.     

蒸发诱导自组装法制备多孔二氧化硅光学薄膜

报道采用溶胶—凝胶技术、蒸发诱导自组装法,通过酸/酸二步法控制实验条件,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶。加入不同量的1,3,5-三甲基苯(TMB)辅助剂来调整膜的孔径。简单提拉迅速蒸发溶剂制备多孔二氧化硅光学薄膜,利用红外光谱对样品进行结构分析,采用UV-VIS-NIR分光光度计测量了薄膜的透过光谱,原子力显微镜(AFM)观察发现多孔薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构、表面光滑、均匀;结果表明所制备的薄膜有好的光学性能、机械性能。     

光学薄膜制备技术

本文综述了光学薄膜制备技术的发展与现状,着重介绍了真空蒸镀、离子辅助沉积、离子束溅射等传统与现代技术,包括工作原理、发展以及应用情况.     

折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过控制制备条件,结合三甲基氯硅烷(TMCS)对SiO2胶粒表面的修饰过程,制备出折射率可调的疏水型SiO2薄膜.对薄膜采用了不同的后处理方式,研究了氨和水蒸气混合气体热处理技术对薄膜疏水性能的影响.采用椭偏仪、FTIR和接触角测试仪对薄膜的折射率、红外特性、接触角等的测试研究表明疏水型SiO2薄膜的折射率可在1.35～1.20之间连续可调,与传统热处理相比,混合气氛热处理使薄膜的折射率略有增加,在所研究的范围内折射率平均增加0.02左右;SiO2胶粒表面的亲水性OH基团可基本被非活性CH3基团代替,薄膜的疏水能力得到进一步提高;接触角由未作表面修饰时的40°左右增加到表面修饰并结合混合气氛热处理的137°左右.     

化学法制备光学薄膜及其应用

概要综述了用化学法制备光学薄膜的浸渍镀膜法、旋转镀膜法、喷溅镀膜法、流延法、弯月面镀膜法和涂布镀膜法等方法,及其薄膜特性,诸如折射率、激光损伤阈值、机械强度等的控制技术,并展望了某些新型光学薄膜的应用前景。     

光学薄膜在光通信中的应用

主要介绍了光学薄膜在光通信的无源型器件中的原理及应用，并与光纤光栅和平面光波导型的无源器件作简单比较。     

软X射线波段的光学薄膜

由于正入射X光光学发展的迫切需要及超精细拋光与超薄多层膜制备技术的成就,适用于软X射线波段的光学薄膜已获得飞速发展并趋于成熟、走向市场。这一波段的光学薄膜具有十分重要面广阔的应用前景,它已成为整个光学薄膜领域中一个令人瞩目的新分支。本文介绍了这些光学薄膜的成膜与监控工艺及对其特性的测试技术,并对我国在这方面的工作进展作一个概要的回顾与展望。