溅射气氛中O2／Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO2薄膜结构与亲水性的影响

在工作气压为0．80Pa的氧氩气混合气氛下，改变氧与氩的流量比(O2／Ar：0．10，0．20，0．30)，在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D．C．)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射仪(XRD)分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物相组成，用接触角分析仪测试了试样在紫外光(UV)照射后的水润湿角。     

钛金属与汽车工业研讨会纪要

综述了介孔材料的合成方法、分类、形成机理、形貌控制和应用。目前各种形状如球形、棒状、片状、螺旋形和绳形等形状的介孔材料已经采用溶胶．凝胶、自组装、微乳、反胶束和超声等方法合成出来。按化学组成介孔材料分为硅基和非硅介孔材料，硅基介孔材料已被很好地研究，相反，非硅介孔材料虽然有着广泛的应用前景但研究不多。介孔材料的几种形成机理已经被提出，主要包括液晶模板和协同组装机理。作者也采用化学超声和反胶束方法制备出新奇的介孔二氧化钛粉末和薄膜材料，其光催化活性明显高于普通二氧化钛粉末和薄膜材料。     

银纳米薄膜在室温大气条件下的氧化机理

采用磁控溅射法在预镀ZnO掺Al薄膜的玻璃基片上制备了银纳米薄膜.研究了Ag纳米薄膜暴露在室温大气条件下连续60d的氧化现象、过程和机理.用光学显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪和四探针电阻测试仪对薄膜的形貌、成分和性能进行了表征.结果表明Ag纳米薄膜在室温大气中易被氧化而失去其优异光电性能的机理是:首先是大气中的O2化学吸附在薄膜表面.引起表面重构;然后含S的小分子气体(如:H2S,SO2)化学吸附在薄膜表面,引起表面重构;最后Ag纳米薄膜在O2和含S的小分子气体作用下被氧化成大量圆锥形柱状的Ag2S和少量的Ag2SO4;大气中的CO2和N2不会与Ag纳米薄膜反应.     

脉冲激光沉积硫化锗-硫化稼-硫化镉非晶薄膜的结构和性能

用脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)法在玻璃基片上沉积了组分为80GeS2-15Ga2S3-5CdS的硫系非晶薄膜,利用x射线衍射、分光光度计、扫描电镜、场发射扫描电镜、Raman光谱等研究了薄膜的性能和结构.对薄膜进行紫外脉冲激光极化,采用Maker条纹法测试薄膜的二阶非线性光学效应(second harmonic generation,SHG).结果表明:获得的硫系GeS2-Ga2S3-CdS非晶薄膜表面光滑平整、厚度约为8000m、透过率高达78%,与靶材相比,薄膜中的缺陷较多.在紫外脉冲激光极化的薄膜中观察到了明显的SHG,强度约为参考石英单晶的两倍.     

钛酸钡基铁电材料的介电非线性研究

通过A位或B位掺杂改性得到的钛酸钡基铁电材料,在外加直流偏置电场作用下,具有介电常数非线性可调的优异介电性能,可以广泛地应用于压控可调陶瓷电容器和微波可调器件领域。针对钛酸钡基铁电材料的介电非线性特性,讨论了BaTiO_3基铁电材料分别在铁电相、顺电相以及相转变温度场附近的介电非线性机理和相关理论;结合笔者近年来有关介电非线性研究的实验结果和相关文献报道,综述了不同A位离子(如Sr~(2-)和Ca~(2-)等)或B位离子(如Zr~(4 )和Sn~(4-)等)掺杂的BaTiO_3基铁电材料体系的介电非线性研究现状,分别对不同物质形态(陶瓷块体、薄膜和厚膜)的BaTiO_3基铁电材料的介电非线性研究及其应用进行了对比分析;并对钛酸钡基铁电材料今后的发展趋势和研究方向进行了展望。     

金属铝诱导法低温制备多晶硅薄膜

以氢气稀释的硅烷（SiH4）和硼烷（B2H6）为气源,利用等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）制备出p型a-Si薄膜.采用铝诱导晶化技术对不同厚度的铝膜对a-Si薄膜晶化的影响进行了研究.实验中发现,铝膜溅射为10 s的非晶硅薄膜样品在450℃下退火10 min后,p型a-Si结构仍为非晶态,铝膜溅射为20 s的非晶硅薄膜在450℃下退火20 min后,p型a-Si薄膜开始晶化为polySi薄膜,并且铝膜厚度越厚,则a-Si薄膜晶化程度越强.     

射频磁控溅射法在玻璃上制备紫外吸收和透明导电双功能薄膜

制备了SnO2:Sb(6%,摩尔分数)靶材和一系列不同摩尔比的CeO2-TiO2靶材;以所制靶材用射频磁控溅射法在普通玻璃基片上沉积了CeO2-TiO2单层和CeO2-TiO2/SnO2:Sb双层薄膜.用紫外-可见光谱、Raman光谱、X射线光电子能谱和X射线衍射对CeO2-TiO2薄膜进行了表征.结果表明:在CeO2/TiO2摩尔比为0.5:0.5和0.6:0.4时沉积得到的CeO2-TiO2薄膜为非晶态结构,并具有高的紫外吸收(平均值＞99%)和高的可见光透过率(平均值＞80%).在CeO2-TiO2薄膜表面存在Ce4 ,Ce3 和Ti4 .对CeO2-TiO2/SnO2:Sb双层薄膜,除具有高的紫外吸收(平均值＞99%)和可见光透过率(平均值＞75%)性能外,还具有导电性,方块电阻在80～90 Ω/口之间,电阻率在(3.2～3.6)×10-3Ω·cm之间.该双层镀膜玻璃具有截止紫外线和透明导电双功能.     

Preparation and characterization of transparent conductive zinc doped tin oxide thin films prepared by radio-frequency magnetron sputtering

High transparent and conductive thin films of zinc doped tin oxide (ZTO) were deposited on quartz substrates by the radio-frequency (RF) magnetron sputtering using a 12 wt% ZnO doped with 88 wt% SnO2 ceramic target.The effect of substrate temperature on the structural,electrical and optical performances of ZTO films has been studied.X-ray diffraction (XRD) results show that ZTO films possess tetragonal rutile structure with the preferred orientation of (101).The surface morphology and roughness of the films was investigated by the atomic force microscope (AFM).The electrical characteristic (including carrier concentration,Hall mobility and resistivity) and optical transmittance were studied by the Hall tester and UV- VIS,respectively.The highest carrier concentration of -1.144×1020 cm-3 and the Hall mobility of 7.018 cm2(V ·sec)-1 for the film with an average transmittance of about 80.0% in the visible region and the lowest resistivity of 1.116×10-2 Ω·cm were obtained when the ZTO films deposited at 250 oC.     

Li0.33La0.56TiO3薄膜电解质的结构和光电性能

采用射频磁控溅射法,自制Li0.33La0.56TiO3陶瓷靶材,在不同基片温度下沉积了Li0.33La0.56TiO3薄膜。利用X射线衍射仪、原子力学显微镜、电化学工作站、紫外-可见分光光度计等现代测试手段,研究了基片温度对薄膜的结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明:所制备的Li0.33La0.56TiO3薄膜为非晶态结构,在可见光波段具有较高的透过率;随着基片温度从50℃升高到300℃,薄膜表面更为平整致密,离子电导率逐渐增加。     

保温对玻璃熔窑内传热与流动的影响

建立了浮法玻璃熔窑内传热与流动的三维数学模型,研究了不同保温情况对玻璃液流场、熔窑热平衡及玻璃熔化质量的影响.对熔化部保温可以起到改善玻璃熔化质量、节能降耗的作用.