оƬʽ���ȼƲ�����Ĥ��Ʒ�͸�ѹ��Ʒ�ı���

 介绍了一种用于测量薄膜样品和高压样品比热的一种芯片式量热计,该器件由美国加州大学伯克利分校的Frances Hellman研究组于15年前最先开发研制并投入使用,但其应用在中国尚未见报道。希望此文能为国内相关领域的研究人员起到抛砖引玉的作用。     

面向微加工的虚拟光刻系统建模与实现

提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D.该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型,实现了投影式光学光刻的三维模拟.它拥有标准的GDSII、CIF版图格式接口和支持各种光学参数(包括数值孔径、波长、离焦量,光刻胶厚度、表面折射率等)的模拟设置.模拟结果的显示采用了体绘制与网格相结合的方法,增强了结果的可视性.此外,光刻模拟结果可以直接导入到虚拟工艺系统ZProcess中作为刻蚀工艺的掩膜输入,实现了光刻工艺与其他微机电系统(MEMS)工艺模拟的无缝集成.一系列模拟结果验证了该系统的可行性.     

In situ visualization of degradation of silicon field emitter tips

This paper deals with the simultaneous observation of both the electron field emission from nanoscopic tips by electrical means and their structural shape change by an ultra‐high resolution transmission electron microscope (TEM). Nanoneedles with sharp tips of radius in the nanometer range were fabricated with semiconductor micromachining technology. A correlation between the electron field emission characteristics and the structural change of the emitter tip was clearly observed. Copyright © 2007 Institute of Electrical Engineers of Japan© 2007 Institute of Electrical Engineers of Japan. Published by John Wiley & Sons, Inc.     

微机械电磁继电器的研究

为了电磁继电器的微型化和提高生产效率,基于微机电系统(MEMS)加工技术提出并试制出一种微机械电磁继电器.这种微继电器由底层磁路、平面励磁线圈和活动电极(衔铁)构成比较完整的磁路,依靠励磁线圈的电流来控制其开关动作,微继电器体积约为5mm×5mm×0.4 mm,其制作工艺主要采用光刻、溅射、电镀和腐蚀牺牲层等常规微加工工艺;同时,利用磁路模型进行了电磁力的理论计算,利用其结果对活动电极尺寸和励磁线圈匝数进行了优化设计,给出了试制的微继电器样品的初步测试结果,励磁线圈阻抗约300Ω,触点导通阻抗约1.7Ω,励磁电流约50mA时可使继电器可靠吸合.     

微电子机械系统及硅微机械加工工艺

微电子机械系统(MEMS)是一项21世纪可以广泛应用的新兴技术。硅微机械加工工艺是近年来随着集成电路工艺发展起来的MEMS主流技术。介绍了MEMS的特点、国内外MEMS的发展现状，讨论了MEMS的三种加工方法，着重探讨了硅微机械加工中常用的腐蚀、键合、光刻、氧化、扩散、溅射等工艺。     

Porous silicon bulk micromachining for thermally isolated membrane formation

A novel low thermal budget technique is proposed for the preparation of thermally isolated silicon membranes. The selective formation of porous silicon in a p-type silicon wafer results in an undercut profile below the implanted n-type silicon regions. The sacrificial porous layer is subsequently removed in a dilute KOH solution. A non-stoichiometric LPCVD nitride layer combination forms the suspension of the single-crystalline silicon membranes. This technique eliminates the need for epitaxial substrates and backside alignment, and proves to be very efficient in the realization of a high-temperature micro-hotplate operating with minimum power consumption for the purpose of integrated gas sensors.     

PMMA基PCR微流控生物芯片准分子激光加工

采用准分子激光在PMMA基片上刻蚀加工出PCR微流控生物芯片,分析了准分子激光能量密度和工作台移动速度对微通道加工质量(深度及粗糙度)的影响,加工过程中选择较低的激光能量密度和较高的工作台移动速度,都有利于获得底面更加光滑的微通道。通过热键合的方法制备出完整的密闭式PCR微流控生物芯片。     

微机电系统的微细加工技术

详细阐述了硅微加工工艺以及近几年内国际上开发的一些新的加工技术,如3D电化学微加工、EFAB工艺等,并提出了目前这些方法中存在的缺陷。     

一种能满足MEMS微梁固支边界条件的锚

在MEMS领域,微梁广泛应用于各种器件及材料参数的提取中,但是由表面微加工工艺制成的单层台阶型锚,往往不能使微梁满足理想固支的边界条件,从而给器件设计和材料参数的提取带来较大的误差.为了解决这一问题,文中提出了一种结构新颖的锚,经Coventorwear软件模拟表明,该锚能提供接近理想固支的边界条件.