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81.
纳米二氧化硅抛光液对低k材料聚酰亚胺的影响 总被引:2,自引:2,他引:0
以3英寸的P型〈111〉硅片为衬底,经过旋涂固化制备低介电常数(低k)材料聚酰亚胺。对聚酰亚胺进行化学机械抛光(CMP),考察实验前后,纳米二氧化硅抛光液对低k材料的结构和介电常数。实验中应用了2种纳米二氧化硅抛光液:一种是传统的铜抛光液;另一种为新型的阻挡层抛光液。通过扫描电镜(SEM)和介电常数测试结果显示,2种抛光液对低k材料,不论是在结构还是电特性方面的影响都不大。经铜抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.08;经阻挡层抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.28。实践证明,这两种纳米二氧化硅抛光液可以应用于集成电路。 相似文献
82.
83.
水解锌制备Zn/ZnO纳米结构及其光学性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用滚压振动磨在干法室温条件下将金属锌制备成尺度约为3~5nm的锌量子点,并使产物与水蒸气在250℃进行化学反应,得到纳米氧化锌或纳米氧化锌与锌的混合物。分别利用能量发射谱仪(EDS)、透射电镜(TEM)对样品成分和形貌进行了表征。结果表明,250℃反应温度下得到的产物具有良好的分散性,其特征是棒状和片状结构共存,而且纳米棒具有显著的沿[011 1]晶向生长的趋势。室温下光致发光(PL)谱显示,在360nm和388nm处有双紫外发射峰,属于激子态发光,双紫外发射峰可能与掺杂能级有关;同时,在496nm处有蓝光发射峰,在515nm处有绿光发射峰,这两种发射属于表面缺陷态发光。对各种发光峰的发光机制进行了讨论。UV-Vis吸收光谱表明,产物在紫外区有很强的紫外吸收,吸收峰出现了蓝移现象,验证了Zn纳米量子点的掺杂形成掺杂能级,也与测得的可见光发射一致。 相似文献
84.
吴春燕 《Canadian Metallurgical Quarterly》2011,11(2)
道家思想究竟是在何时、通过何种渠道传入日本的,学界对此看法不一.通过对船山古坟铁刀铭文及<宋书·倭国传>所载"倭国王武上表文"的考察,并结合发生在公元3世纪至公元6世纪魏晋南北朝时代大陆移民东迁这一事实,文章认为,虽然没有这一时期关于道家典籍东传日本的相关记载,但道家思想极有可能通过大陆移民传入了日本,并对当时的社会上层和知识阶层产生了一定的影响. 相似文献
85.
公共英语是高职教育的必修课,公共英语教学的目的是在帮助学生打好语言基础上,培养学生实际语言应用技能,特别是用英语处理与未来职业相关业务的能力.笔者对高职公共英语教学现状进行了调研,分析并指出了目前高职高专公共英语教学中存在的问题.旨在对高职英语教学改革提供一些参考. 相似文献
86.
87.
以炭纤维针刺整体毡为预制体,分别采用化学气相渗透(chemical vapor infiltration,CVI)法、浸渍炭化(Impregnation and carbonization,I/C)法以及CVI与I/C相结合(CVI&I/C)的方法制备C/C坯体,坯体中的基体炭分别为热解炭,树脂炭,热解炭和树脂炭共存体... 相似文献
88.
碱性抛光液对铜布线电特性的影响 总被引:5,自引:5,他引:0
随着互连电路的规模发展到亚微米级,互连延迟已经成为超过门延迟的重要因素。减小延迟在互连结构中是不可避免的问题。化学机械抛光是最适合在多层铜互连结构中达到平整化目的的手段。出于对整体过程的考虑,我们将考察化学机械抛光对铜晶圆片电特性的影响。在这篇文章中,我们将考察两种抛光液在化学机械抛光中的影响,一种抛光液是酸性抛光液,来自于SVTC,另一种是碱性抛光液,由河北工业大学提供的。着重考察了三个方面的特性,电阻,电容和漏电流。电阻测试结果显示,河北工业大学提供的抛光液抛光后,电阻更小。而被两种抛光液抛光后的电容则相差不多,电容值分别为1.2 E-10F 和1.0 E-10F。同样,河北工业大学提供的抛光液抛光后的漏电流是1.0E-11A,低于SVTC提供的酸性抛光液。结果显示,河北工业大学提供的碱性抛光液会产生小的碟形坑和氧化物损失,优于SVTC提供的酸性抛光液。 相似文献
89.
以模糊分类识别理论为基础,提出了一种分布式系统航迹关联算法。算法以各节点局部航迹为研究对象,确定航迹特性指标,建立航迹贴近度向量,根据最大隶属原则解决航迹关联问题。仿真表明,该算法比基于统计方法的加权航迹关联算法具有关联速度快、关联正确率高,且对密集目标环境适应性较强的优点。 相似文献
90.
针对青海玉树地区受损房屋进行了震害分析,分别阐述了土木结构和砌体结构在地震中暴露出来的问题,包括墙体承载力、结构体型等方法,指出了玉树地区房屋在结构抗震方面存在较大安全隐患,应当引以为戒。 相似文献