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采用反应磁控溅射在掠射角度α=0°和α=80°的条件下制备氧化钨(WO3-x)薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛(TiO2)。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对WO3-x/TiO2薄膜的晶体结构、表面/断面形貌以及表面化学成分进行表征。在三电极体系1 mol/L LiClO4/PC溶液中,采用电化学工作站和紫外-可见分光光度计测试了WO3-x/TiO2薄膜的电致变色性能。XRD结果表明,WO3-x/TiO2薄膜为非晶态结构,与掠射角度无关。当掠射角度为80°时,获得了纳米柱状多孔薄膜。从 W 4f和Ti 2p的XPS谱图确认氧化钨为亚化学计量比的WO3-x,而氧化钛为满足化学计量比的TiO2。与致密薄膜相比,纳米柱状多孔薄膜需要较低的驱动电压且具有较快的响应速度。纳米柱状多孔薄膜的电荷容量为83.78 mC,是致密薄膜电荷容量30.83 mC的2倍以上。在±1.2 V驱动电压下,注入和脱出离子扩散速率分别为Din=5.69×10-10 cm2/s和Dde= 5.08×10-10 cm2/s。与纯WO3薄膜相比,WO3-x/TiO2薄膜的电致变色循环稳定性更好。纳米柱状多孔薄膜在可见光范围内具有较大的光调制幅度,因此其光密度变化(ΔOD)大于致密薄膜。  相似文献   
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