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1.
Chemical durability of lanthanide zirconates (A2Zr2O7) (A = La-Yb) under near-field environments is important for evaluating their application as potential nuclear waste forms. In this work, A2Zr2O7 (A = La-Yb) are synthesized by spark plasma sintering with controlled microstructure and their chemical durability are evaluated in a nitric acid solution (pH = 1). Scanning transmission electron microscopy analysis reveals an amorphous passivation film either enriched with Zr or lanthanide. The complex chemistry of the passivation films can be correlated with a transition in corrosion mechanisms from a preferential release of lanthanide in La2Zr2O7 to a preferential release of Zr in Er2Zr2O7 and Yb2Zr2O7. These results suggest a dominant mechanism of incongruent dissolution and surface reorganization for the formation of passivation films. Strong correlations are identified between the leaching rates and cation ionic size, ionic potential, electronegativity differences between A-site cation and Zr, and bonding valence sum of oxygen, suggesting important impacts of structural and bonding characteristics in controlling chemical durability of lanthanide zirconates.  相似文献   
2.
针对传统的通过转速与光刻胶膜厚的关系来大致判断膜厚范围的问题,研究了基于单色光干涉的光刻胶膜厚测量方法。基于光刻胶的基本特性,将油膜的膜厚测量方法应用在光刻胶上。基于薄膜干涉原理进行系统的光路设计以及光刻胶膜厚测量平台的设计。进行了干涉条纹自动计数算法的研究以及基于单色光干涉的相对光强原理的研究。最后搭建硬件系统和软件系统,对干涉条纹自动计数算法与单色光干涉的膜厚测量方法进行实验验证与分析,实现了光刻胶膜厚的快速精确测量。  相似文献   
3.
为研究氮气含量的变化对AlCrTaTiZrV高熵合金薄膜性能的影响,检验在最佳氮气含量下厚度为15 nm的(AlCrTaTiZrV)N扩散阻挡层的热稳定性。采用直流磁控溅射设备在N型Si(111)基底上溅射不同氮气含量的高熵合金氮化物;选取最佳氮气含量为制备条件,在硅基底上沉积15 nm厚的AlCrTaTiZrVN10高熵合金氮化物为扩散阻挡层,并在阻挡层顶部沉积50 nm厚度的Cu膜,最终形成Si/AlCrTaTiZrVN10/Cu三层堆叠结构。利用真空退火炉将Si/AlCrTaTiZrVN10/Cu薄膜体系在500 ℃下进行不同时间的退火处理,用以模拟恶劣的工作环境。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)及四探针电阻测试仪(FPP)对试样的表面形貌、粗糙度、物相组成及方块电阻和进行表征。试验结果为:当氮气含量低于10%时,高熵合金氮化物薄膜为非晶结构。当氮气含量为20%时,高熵合金氮化物薄膜呈现FCC结构,并随着氮气含量的增加,薄膜的结晶性得到提高。薄膜表面的粗糙度在氮气含量为10%时最低,Ra仅为0.124 nm。三层堆叠结构500 ℃退火8 h后,Cu表面发生团聚,薄膜的方阻维持在较低的0.070 Ω/□,且并未发现Cu-Si化合物。厚度为15 nm的非晶结构AlCrTaTiZrVN10薄膜在500 ℃退火8 h后,依旧可以抑制Cu的扩散,表现出了优异的热稳定性及扩散阻挡性能。  相似文献   
4.
《长安十二时辰》是一部唐代背景古装剧,其男装服饰设计基于历史,可为戏服研究所借鉴。文章基于《长安十二时辰》影视、小说及相关文史资料,运用图像学原理,对该剧的影视男装进行探析。研究认为:《长安十二时辰》中的男装设计可圈可点,无论是款式、色彩还是图案甚至服饰搭配都较为严格遵循唐代服饰制度,整体上符合唐代服饰特点;《长安十二时辰》中的部分服饰细节上仍有错误,如李必冠帽的使用上,但瑕不掩瑜;《长安十二时辰》中胡服的设计和使用在颜色和图案乃至穿用人群上都较为灵活,表现了唐代文化的兼容并蓄。  相似文献   
5.
Herein, we report the photosensing property of CdS thin films. CdS thin films were coated onto glass substrates via a spray pyrolysis method using different spray pressures. Prepared films were characterized using X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), and optical and photoluminescence spectroscopy. XRD analysis demonstrated the growth of crystalline CdS films with crystallite sizes varying from 26 to 29 nm depending on the pressure. The SEM and EDAX analyses revealed nearly-stoichiometric CdS films with smooth surfaces and slight variation in grain morphology due to pressure changes. Optical measurements showed a direct bandgap varying from 2.37 eV to 2.42 eV due to pressure changes. A photodetector was also fabricated using the grown CdS films; the fabricated photodetector exhibited good performance depending on the spray pressure. A spray pressure of 1.5 GPa resulted in high photoresponsivity and external quantum efficiency.  相似文献   
6.
以三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)化铬为前驱体,采用化学气相沉积(CVD)法在氧化铝(Al2O3)陶瓷基板上制备碳化铬(Cr3C2)薄膜,其中沉积温度为723 K至923 K,沉积时间为1 200 s。研究了不同沉积温度对Cr3C2薄膜的相组成、择优取向、宏观表面、微观结构及电学性能的影响。结果表明,在723 K至923 K下制备得到具有高度(130)择优取向的Cr3C2薄膜。随着沉积温度的升高,Cr3C2薄膜表面先由光滑变粗糙,后逐渐变光滑;薄膜晶粒呈椭球型生长;薄膜的厚度先增加后减小,从而导致电阻先减小后增大。在798 K时制备得到厚度最大且电阻最小的(130)择优取向的最佳Cr3C2薄膜。同时,在实验条件下Cr3C2薄膜表面存在少量的碳和Cr2O3。  相似文献   
7.
Sensitivity and multi-directional motivation are major two factors for developing optimized humidity-response materials, which are promising for sensing, energy production, etc. Organic functional groups are commonly used as the water sensitive units through hydrogen bond interactions with water molecules in actuators. The multi-coordination ability of inorganic ions implies that the inorganic ionic compounds are potentially superior water sensitive units. However, the particle forms of inorganic ionic compounds produced by classical nucleation limit the number of exposed ions to interact with water. Recent progress on the inorganic ionic oligomers has broken through the limitation of classical nucleation, and realized the molecular-scaled incorporation of inorganic ionic compounds into an organic matrix. Here, the incorporation of hydrophilic calcium carbonate ionic oligomers into hydrophobic poly(vinylidene fluoride) (PVDF) is demonstrated. The ultra-small calcium carbonate oligomers within a PVDF film endow it with an ultra-sensitive, reversible, and bidirectional response. The motivation ability is superior to other bidirectional humidity-actuators at present, which realizes self-motivation on an ice surface, converting the chemical potential energy of the humidity gradient from ice to kinetic energy.  相似文献   
8.
为了进一步提高末敏弹在复杂战场环境下对地面装甲目标的识别概率,提出了一种基于轻量化卷积神经网络的红外图像与距离像复合探测识别方法。网络设计考虑了弹载环境对实时性的要求,将网络划分为特征提取、特征融合2个阶段。在特征提取阶段,对不同源的图像进行了分布式卷积,提高了网络的并行性,降低了网络参数量与计算量; 为了弥补分布式卷积带来的特征损失,将距离像与红外图像的融合图像也一并作为网络输入; 在特征融合阶段利用深度可分离卷积实现了进一步的轻量化设计。通过仿真缩比实验环境获得的数据集进行实验验证,实验结果表明,网络具有较小计算复杂度的同时能够对复杂背景环境下的装甲目标进行有效识别。  相似文献   
9.
在实际镀膜过程中,镀膜腔室内不可避免地会含有微米级的颗粒、灰尘,除此之外,衬底表面在加工过程中产生的缺陷、污染,即使经过清洗处理,往往也不能完全消除,甚至会带来新的缺陷、污染.阴极靶中的杂质、气泡以及微弧放电同样会产生颗粒物,这些因素将直接导致薄膜在生长过程形成缺陷.详细综述了薄膜缺陷的形成原因、分类以及对不同应用的影响.根据形成原因、微观形貌等,可将缺陷大致分为薄片形结构、凹坑结构、结节状球形滴锥结构、针孔/气孔结构等四种类型.不同类型缺陷在薄膜中的占比受环境因素变化而改变,在空间分布也有所不同.缺陷破坏了薄膜的完整性,对薄膜性能产生较大影响,如降低了硬质薄膜的耐摩擦性,腐蚀介质可通过缺陷达到基材表面,导致耐腐蚀薄膜丧失保护功能.对于超导薄膜,当缺陷尺寸远大于copper电子对相干长度时,剩余电阻大大增加.最后,总结了气压、偏压、电压、沉积时间、衬底安装角度、镀膜室屏蔽结构等对缺陷密度的影响,也说明通过优化以上参数与结构可以降低缺陷密度,改善薄膜质量.  相似文献   
10.
魏永强  游业豪  蒋志强 《表面技术》2021,50(12):311-319
目的 研究脉冲偏压频率对TiSiN/TiAlN纳米多层薄膜结构和性能的影响,优化工艺参数,以提高薄膜的性能.方法 采用脉冲偏压电弧离子镀,在M2高速钢和单晶硅基底上以不同脉冲偏压频率沉积TiSiN/TiAlN纳米多层薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪和纳米压痕仪,研究脉冲偏压频率对TiSiN/TiAlN纳米多层薄膜的表面形貌、元素成分、截面形貌、相结构和纳米硬度的影响.结果 TiSiN/TiAlN纳米多层薄膜表面的大颗粒直径主要集中在1μm以下,随着脉冲偏压频率的变化,大颗粒的数量为184~234,所占面积为40.686~63.87μm2;主要元素为Ti元素和N元素,所占原子比分别为48%和50%,Si和Al元素的含量较少;多层结构不明显,截面形貌可观察到柱状晶的细化,80 kHz时出现片状化结构;以(111)晶面为择优取向,晶粒尺寸在20 nm左右;纳米硬度为28.3~32.3 GPa,弹性模量为262.5~286.8 GPa.结论 50 kHz时,TiSiN/TiAlN纳米多层薄膜表面大颗粒的数量最少,为184个;70 kHz时大颗粒所占面积最小,为40.686μm2;晶粒尺寸在50~60 kHz时发生细化,60 kHz时,晶粒尺寸达到最小值19.366 nm,纳米硬度和弹性模量分别达到最大值32.3 GPa和308.6 GPa,脉冲偏压频率的最佳频率范围为50~70 kHz.  相似文献   
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