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A low-voltage triggering silicon-controlled rectifier(LVTSCR),for its high efficiency and low parasitic parameters,has many advantages in ESD protection,especially in ultra-deep sub-micron(UDSM) IC and high frequency applications.In this paper,the impact factors of the snapback characteristics of a LVTSCR and the configuring modes are analyzed and evaluated in detail.These parameters include anode series resistance,gate voltage,structure and size of devices.In addition,a double-trench LVTSCR is presented that can increase the hold-on voltage effectively and offers easy adjustment.Also,its snapback characteristics can obey the ESD design window rule very well.The strategy of ESD protection in a RFIC using a LVTSCR is discussed at the end of the paper. 相似文献
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通过对农村生活污水现状进行分析,提出了在农村生活污水分散式生态处理应用中,应以节能减排、能耗最小化为原则进行工程方案的设计.研究表明,农村生活污水量与生活条件密切相关,污水的收集与排放是实施污水处理的基础.整合并应用多通道旋流折板厌氧反应预处理装置和地下管孔渗滤生态处理组合系统,具有工程造价低、无能耗、系统维护方便等特点,且出水水质稳定可靠. 相似文献
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为了能够方便精确地研究AxlGa1-xN/GaN异质结中二维电子气性质,提出一种多子带二维电子气的解析模型.利用此模型能够求出二维电子气能带、子能级、波函数和量子特性的解析解.通过模型计算还可以得到二维电子气的分布变化、面电子密度、基带能级、费米能级和势阱随Al组分及AlGaN层厚度的改变.与泊松-薛定谔自洽求解结果相比较,此模型能够给出精确的结论,并避免了泊松-薛定谔自洽求解复杂的数值计算和耗时长等缺点. 相似文献
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采用恒定电流应力对薄栅氧化层MOS电容进行了TDDB评价实验,提出了精确测量和表征陷阱密度及累积失效率的方法.该方法根据电荷陷落的动态平衡方程,测量恒流应力下MOS电容的栅电压变化曲线和应力前后的高频C-V曲线变化求解陷阱密度.从实验中可以直接提取表征陷阱的动态参数.在此基础上,可以对器件的累积失效率进行精确的评估. 相似文献
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研究了在热载流子注入HCI(hotcarrier injection)和负偏温NBT(negative bias temperature)两种偏置条件下pMOS器件的可靠性.测量了pMOS器件应力前后的电流电压特性和典型的器件参数漂移,并与单独HCI和NBT应力下的特性进行了对比.在这两种应力偏置条件下,pMOS器件退化特性的测量结果显示高温NBT应力使得热载流子退化效应增强.由于栅氧化层中的固定正电荷引起正反馈的热载流子退化增强了漏端电场,使得器件特性严重退化.给出了NBT效应不断增强的HCI耦合效应的详细解释. 相似文献
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研究了 MOS器件中的热载流子效应 ,在分析了静态应力下 MOSFET寿命模型的基础上 ,提出了动态应力条件下 MOSFET的寿命模型。此外 ,还研究了沟道热载流子的产生和注入与器件偏置条件的关系 ,讨论了热载流子效应对电路性能的影响。通过对这些失效因素的研究和通过一定的再设计手段 ,可以减少热载流子效应导致的器件退化 相似文献
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薄栅SiO2击穿特性的实验分析和机理研究 总被引:1,自引:0,他引:1
该文利用衬底热空穴(SHH)注入技术分别控制注入到薄栅氧化层中的热电子和热空穴的数量,定量研究了热电子和热空穴注入对薄栅氧化层击穿的影响,提出了薄栅氧化层的经时击穿是由热电子和热空穴共同作用导致的新观点,并对薄栅氧化层的经时击穿建立了一个新的物理模型。 相似文献
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