低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响

以SiCl₄和H₂为原料，采用低压化学气相沉积（LPCVD）渗硅法在Mo基体表面原位反应制备了MoSi₂涂层，研究了沉积温度对MoSi₂涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响. 研究结果表明：在1100~1200℃下制备的涂层结构致密，由单一MoSi₂组成，沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为増加的趋势；当沉积温度高于1200℃，涂层出现开裂现象，由游离Si和MoSi₂两相组成，涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势. 1100℃以下沉积的主要控制步骤为Si与Mo反应，而1100℃以上Si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用.     

模糊系统结合蚁群算法的金具温升建模

为了得到准确可靠的阀厅连接金具温升模型,运用模糊系统结合蚁群算法的方法进行建模。在分析基本蚁群算法与梯度下降法优缺点的基础上,将两种方法结合形成改进蚁群算法,即在基本蚁群算法基础上应用梯度下降算法。通过试验得到的训练数据分别用基本蚁群算法、梯度下降算法、改进蚁群算法训练模糊系统,改进蚁群算法的收敛效果优于其他两种方法;通过试验得到的测试数据对4种方法所得的模型进行测试,由改进蚁群算法训练模糊系统所得模型的测试效果是最好的。结果表明,若能通过试验得到足量训练数据,用改进蚁群算法训练模糊系统的方法对阀厅连接金具的温升进行建模是可行的。     

LPCVD法制备SiC-MoSi2涂层的形貌及沉积机理研究

为提高碳/碳复合材料抗氧化性能,以甲基三氯硅烷(MTS)为先驱体,利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在碳/碳复合材料表面制备SiC-MoSi2涂层,通过XRD和SEM分析了不同沉积温度下涂层结构、物相组成及其沉积机理。结果表明,沉积温度对涂层的成分、结构及致密度有较大影响,在1100～1250℃均可成功得到SiC-MoSi2涂层,1100℃所得涂层结构疏松多孔;1250℃制备的涂层中间部位孔隙较多,表层为致密SiC涂层;1150～1200℃之间可得到均匀致密、以MoSi2颗粒为分散相、以CVD-SiC为连续相的SiC-MoSi2双相陶瓷涂层。     

添加Al、Sn元素对Mg-Zn-Ca合金组织和力学性能的影响

以Mg-Zn-Ca合金为基体,同时添加1wt%Al-(0.5,1,1.5)wt%Sn元素,研究Al、Sn元素对铸造Mg-Zn-Ca合金组织和力学性能的影响。对合金进行了金相(OM)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等分析,发现添加Al、Sn元素会细化基体的晶粒,而且会生成雪花状、条状和块状的新相,同时会提高铸造Mg-Zn-Ca合金的力学性能。在添加1wt%Al+1.5wt%Sn时,合金抗拉强度和断后伸长率分别由未添加Al、Sn的151MPa和2.0%提高到188MPa和3.7%。     

树脂镜片抗磨加硬膜层的研究进展

树脂光学镜片以其优异的性能逐步取代玻璃镜片,占据了国内外大部分市场,但由于硬度低,耐磨损性差,所以使用寿命较短.研究发现在其表面镀制抗磨加硬膜可显著提高耐磨损性.综述了国内外近年来在树脂镜片上涂镀有机硅、石英等抗磨加硬膜的制备方法和性能研究进展,并介绍了在树脂镜片上沉积新型类金刚石(DLC)抗磨加硬膜的研究现状及发展前景.     

Ca含量对AZ91-2Sm镁合金组织和力学性能的影响

采用光学显微镜、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和电子万能材料实验机,研究了Ca含量(0%～2.4wt%)对AZ91-2Sm镁合金组织和力学性能的影响。结果表明,适量Ca的加入能细化AZ91-2Sm合金的晶粒,改善合金的组织;同时合金中出现高熔点、稳定性好的亮白色的块状Al2Sm和沿Mg17Al12相分布的Al2Ca相。在室温和高温(150、175℃)下,合金的抗拉强度和伸长率均随Ca含量的变化而变化,其中当w (Ca)=1.6%时,抗拉强度相比AZ91-2Sm增加了15.48%(室温)、8.03%(150℃)、2.66%(175℃),伸长率提高了32.86%(室温)、22.72%(175℃),但在150℃时伸长率相比AZ91-2Sm的下降8.78%。     

稀土元素Y和Nd混合添加对Mg-Al-Ca合金组织和性能的影响

采用金属型铸造法制得混合添加不同含量Y和Nd元素的Mg-Al-Ca-aY-bNd(a=0、0.5、1、1.5,b=0、0.5、1、1.5)合金,通过光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了合金的显微组织和物相,测试了力学性能。结果表明,适量的稀土元素Y和Nd的加入明显细化了合金组织,生成的新稀土相Al_2Y、Al_2Nd,有效地提高了合金的力学性能,其中当Y和Nd的添加量为0.5%Y+0.5%Nd时,合金的综合力学性能最好,抗拉强度和断后伸长率分别为152 MPa和4.0%。     

形核工艺对金刚石膜形貌和电阻率的影响

金刚石薄膜电阻率的高低是薄膜绝缘性能优劣的直观反映,也是影响辐射剂量计器件性能的重要因素.针对目前形核工艺与电阻率的关系还不十分清楚的问题.本文研究了微波等离子体形核阶段工艺参数如基片位置、微波功率、甲烷浓度的变化对金刚石薄膜的表面形貌和电阻率的影响.结果表明微波等离子体形核工艺参数对金刚石薄膜的电阻率和表面形貌有显著影响.获得的最佳成核工艺条件:基体温度960℃、甲烷浓度0.72%、压力5.3 kPa、微波功率1300 W.在此工艺条件下制得的金刚石薄膜的电阻率值达到1011 Ω·cm数量级.     

TiAl_3相对原位TiC/Al-4.5Cu复合材料高温磨损行为的影响

采用接触反应法制备了原位TiC/Al-4.5Cu复合材料,研究了微观组织中TiAl_3相对复合材料100~250℃高温下干摩擦磨损行为的影响。结果表明:高温下原位TiC/Al-4.5Cu复合材料磨损量均随载荷(15~55 N)增加而增加,但含TiAl_3相的复合材料磨损量始终较高。当载荷大于35 N,复合材料存在一个磨损加剧的临界转变温度;含TiAl_3相的复合材料该临界转变温度较低。TiAl_3相的存在降低了复合材料的耐磨性。