氧化锰矿浆脱除电解锰渣煅烧烟气二氧化硫工艺研究

传统的石灰石-石膏法烟气脱硫不仅运行成本高会产生大量的二次污染物,而氧化锰矿湿法脱硫不仅能够脱除烟气中SO2,而且同时实现矿粉中锰的浸出生成硫酸锰.。本文结合电解锰企业生产特点,提出以氧化锰矿和电解阳极液配浆来直接脱除电解锰渣煅烧烟气二氧化硫的新工艺,研究了不同工艺参数对脱硫浸锰的影响。对模拟电解阳极液与氧化锰矿浆的脱硫浸锰工艺实验表明,随着脱硫时间的增加,烟气中SO2越高,脱硫率越低,锰浸出率增加,应采用多级逆流方式实现高效脱硫和深度浸锰效果。脱硫率随着氧化锰粒径的减小而增高,用于脱硫的锰矿粒径应小于120目。烟气脱硫操作温度控制在50℃～80℃,液固比宜选取9:1～6:1。对于不同处理装置,进气流量对脱硫浸锰的效率具有较佳值,本实验装置选择2.0 m3/min。采用模拟电解阳极液对7%的模拟煅烧烟气进行的5级氧化锰浆脱硫实验表明,在液固比为9:1,锰矿粒径为200目,温度50 ℃前4级脱硫时间20 min,第5级100 min下,SO2出口浓度为39 ppm,锰矿浸出率为93.12%,浆液中Mn2+浓度为46.26 mg/L,连二硫酸锰浓度为4.0 g/L。本文以氧化锰矿为脱硫原料,电解阳极液配浆来直接脱硫的新工艺,该工艺集脱硫浸锰为一体,与传统的硫资源利用方式相比,投资和运行成本显著降低,具有较好的应用前景。     

外延膜的高分辨X射线衍射分析

广泛应用于半导体、铁电和光电材料中的外延结构特征以及应变和缺陷会影响外延膜的物理/化学性能。高分辨X射线衍射是对外延结构进行无损准确表征的关键技术。本文从高分辨X射线衍射与外延结构倒易空间的关系出发,重点阐述高分辨X射线衍射与普通X射线衍射的联系与区别,以强调高分辨X射线衍射特征。以铁电外延膜与衬底结构高分辨X射线衍射为例,系统分析它们的高分辨X射线衍射斑特征,包括共格生长、非共格生长、倾斜生长下衍射斑特征,以及外延膜的尺寸、外延膜的倾斜扭转和外延膜的应变对衍射斑的影响等。结合Si1-xGex(x=0.1)等外延膜结构的具体分析阐述如何通过高分辨X射线衍射谱来获取外延膜结构参数,包括外延膜晶格常数、晶格错配度以及厚度和超晶格等信息。本文还系统介绍了高分辨X射线衍射中的倒易平面图的作法,以及相关的理论和实验方法,并据此获得了PbTiO3外延膜的应力状态、畴结构、相变等结构信息。