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1.
线粒体荧光探针最新研究进展   总被引:2,自引:2,他引:0       下载免费PDF全文
细胞器的研究一直是认识细胞结构和功能的重要手段。线粒体是细胞的能量工厂,参与众多的新陈代谢过程,许多病理学过程均与它相关,是一种重要的细胞器,一直以来都是研究的热点。定位于线粒体的荧光探针主要分为3大类,本文重点介绍并讨论近10年基于带有正电荷的荧光团或者在荧光团中引入三苯基膦等定位基团实现对线粒体染色荧光探针的研究进展。  相似文献   
2.
电荷调节剂(charge control agent,CCA)作为一种重要的改变墨粉带电特性与起电速率的添加剂,逐渐受到研究者们越来越多的重视。本文针对目前墨粉所用的几类传统电荷调节剂的发展历程进行了总结。文中指出按照电性的不同,CCA可分为正电性与负电性两大类。在传统CCA中,正电性CCA包括苯胺黑类与季铵盐类,前者由于本身具有颜色无法应用到彩色打印中,而季铵盐类因其合成简单、色彩较浅等优势是目前使用最多的正电性CCA。负电性CCA包括偶氮金属络合物类与叔丁基水杨酸金属络合物类,其中后者因其带电量稳定、在树脂中分散性好且无色的优点成为目前应用最广泛的传统CCA。近年来,金属络合物型CCA由于在高温状态下不稳定的缺点使结构中不含金属离子的新型CCA成为研究的热点。此外,由于对环境无害及高画质的要求提高,生物基材料型CCA与通过聚合反应合成的CCA应用也越来越普及。在世界范围内,日本的东方化学工业株式会社、保土谷化学工业株式会社与中国湖北鼎龙化学股份有限公司是最大的3个CCA生产商,而前两家公司目前占据全球80%以上的份额,因此研究发展高端显像信息化学品仍然是我国墨粉行业的重要任务。文章针对未来如何解决不含金属离子的电荷调节剂合成成本过高的问题,指出发展更具价格竞争力、带电性能充分、对环境无害、面向彩色打印的无色电荷调节剂将成为电荷调节剂发展的新趋势。  相似文献   
3.
Internet上质谱资源的检索与利用   总被引:1,自引:0,他引:1  
Internet上丰富的质谱资源是没有时间障碍和空间障碍的共享资源 ,将成为检索质谱资源的首选工具。本文介绍了质谱资源的检索方法 ,并列出了许多重要的质谱相关网址。  相似文献   
4.
5.
甲烷一步氧化制甲醇新技术进展   总被引:4,自引:2,他引:2  
主要介绍国内外关于甲烷直接氧化制甲醇新技术研究进展,包括生物催化,仿生催化,光催化,冷等离子技术及超临界与膜的应用等。  相似文献   
6.
芳香族卤素交换氟化反应及其应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
含氟芳香化合物是医药、农药、染料等精细化学品的重要中间体。其制备方法主要有芳吸重氮化/热分解法(BJz一Schema。11。反应)和因素交换法。前者对电子云密度较高的芳胶(如苯胶、对甲苯胺等)具有较高的收率,而后者则主要m于电子云密度低或易发生亲核取代的芳香族原料(如含硝基、氰基的氯代芳烃等)。利用碱金属氟化物(如KF)进行卤素交换反应,是近年来芳香族氟化物合成化学中最活跃的领域之一。本文就该反应的强化,如KF的活化、相转移催化剂的应用、溶剂的作用及最新研究成果和在精细化学品制备中的应用进行总结和讨论。1卤素…  相似文献   
7.
1,2,3,4—丁烷四羧酸在丝和棉纤维上的整理工艺   总被引:2,自引:0,他引:2  
以1,2,3,4-丁烷四羧酸(BTCA)对丝和棉纤维上的整理工艺进行研究,通过对织物的增质率,黄度,白度,折皱回复角等性能指标的测试,确立了最佳工艺,发现pH值与增质率的关系,并提出了整理废液的循环使用。  相似文献   
8.
陈志坚  彭孝军 《辽宁化工》2004,33(6):311-313
以N ,N -二乙基间氨基苯酚 ,对羧基苯甲醛为原料 ,合成了两种新的罗丹明衍生物 ,这种合成方法获得的产物单一 ,避免了在罗丹明染料通常的合成工艺中产生 5 ,和 6 ,位异构体混合产物 ,减少了繁琐的分离纯化工序 ,降低了制备成本 ,该合成方法操作简便 ,产率优良 (总收率≥ 90 % )。  相似文献   
9.
设计、合成了一个新的甲烷单加氧酶(MMO)模型化合物[Fe2(Ⅲ,Ⅲ)L(μ-OAc)2]·PF6,其中L为2,6-二{[(2-羟基-5-叔丁基-苄基)(吡啶-2-甲基)-氨基]-甲基}-4-甲基苯酚。与以往的模型体系[Fe2(Ⅱ,Ⅲ)(bpmp)(μ-OAc)2]·(BPh4)2相比,新模型增加了2个酚配体、2个叔丁基。这些基团的引入提高了中心金属Fe的价态,并增加了配体的电子云密度从而调节了Fe的氧化还原电位。该模型进一步缩小了人工模型体系与甲烷单加氧活性中心(MMOH)的差异。通过红外(IR)、电喷雾电离质谱(ESI-MS)、核磁共振NMR(gCOSY、gHMBC、gHSQC)及电化学对新配体及络合物进行了表征和测试。  相似文献   
10.
陈昊  陈鹏忠  彭孝军 《化工学报》2022,73(8):3307-3325
由于具有光源波长短(13.5 nm)、图案化分辨率高等优点,极紫外(extreme ultraviolet, EUV)光刻技术被认为是突破5 nm甚至是3 nm半导体芯片制程节点的关键技术,与之相对应的EUV光刻胶研发广受关注。但传统的基于聚合物体系的化学放大光刻胶(chemical amplified resist, CAR)因尺寸过大、对EUV吸收低,限制了其在EUV光刻技术的应用进程。部分含有d轨道电子的金属元素具有高的EUV吸收截面,在光刻胶分子中引入这些金属元素可以有效提高对EUV的灵敏度。通过分子设计制备尺寸小、EUV吸收高的金属基光刻胶材料是解决EUV光刻胶服役性能问题的有效途径,已得到了广泛的研究。本文按金属氧簇(MOCs)、金属氧化物纳米粒子(NP)、金属-有机小分子(MORE)进行分类,对目前国内外的EUV光刻胶研究进展进行总结,并对EUV光刻胶未来所面临的机遇和挑战进行了展望。  相似文献   
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