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1.
研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响。用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线,用高频电感法测试膜层的磁导率μi,用四探针法测试膜层的电阻率ρ。结果表明,膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关,在最佳镀覆工艺条件下(电流密度10mA/cm2,pH=2.8,施镀温度25℃,时间10min)所得合金镀层光亮、致密,有较好电磁特性,Bs达1.9T,矫顽力Hc为1.15Oe,电阻率为45μΩ.cm,在1MHz下磁导率μi为602。 相似文献
2.
3.
采用微弧氧化法,以钛箔作为基体,钨酸盐为电解液,成功制备出WO3/TiO2复合膜作为锂离子电池负极材料。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪对复合膜组织结构进行表征,复合膜主要由WO3和TiO2组成。当电解液中钨酸钠质量为70 g时,测得电池电化学性能最稳定,比容量为605.684 mAh/g,循环200圈后比容量保持在141.466 mAh/g。涂覆石墨烯后,初始比容量提升至662.3 mAh/g,循环200圈后比容量保持在614.1 mAh/g,容量保持率高达92.7%,电化学性能更好。 相似文献
4.
以Al粉、Ti粉和C粉为原料,利用氩弧熔敷技术,在ZL104合金表面原位合成了TiC增强Al基复合材料层,借助扫描电镜、X射线衍射仪对复合涂层的组织进行了分析;利用显微硬度计、摩擦磨损试验机对复合涂层性能进行了测试。结果表明,氩弧熔敷过程中可以充分反应合成TiC颗粒;TiC颗粒呈球状分布,颗粒尺寸约为1.5μm,均弥散分布于熔敷层中。熔敷层与基体呈冶金结合,无裂纹、气孔等缺陷;复合涂层的显微硬度可达660 HV0.2,涂层耐磨性较基体提高近7倍。 相似文献
5.
在Q235D钢表面采用氩弧熔敷技术制备了Ti(C,N)-TiB2增强Ni60A基复合涂层。利用SEM对复合涂层的显微组织进行了分析,Ti(C,N)颗粒呈花瓣状和不规则的球状,TiB2颗粒呈短棒状和六面体,并对其组织结构进行表征。利用显微硬度计和摩擦磨损试验机,对复合涂层的性能进行了测试和分析。涂层表面平均硬度达到了1250 HV。摩擦磨损实验表明,涂层的磨损机制主要为磨粒磨损,伴随着粘着磨损。 相似文献
6.
7.
针对T10 钢卡瓦淬火产生裂纹的问题,研究了不同的热处理工艺及其产生的缺陷,认为T10钢卡瓦采用水油双液淬火,并进行及时回火处理,裂纹少、废品低,满足了工况使用要求。 相似文献
8.
采用激光熔覆技术制备了Ni60B镍基合金涂层以及微米WC、纳米WC和微-纳米WC颗粒增强的Ni60B基复合涂层(分别称为WCm、WCn和WCmn复合涂层).对制备涂层在Amsler200磨损试验机上进行了不同载荷和滑动距离的水润滑滑动磨损试验.结果表明:WC颗粒的加入显著提高了Ni60B涂层的耐磨性.WCm复合涂层和纳米WCn复合涂层的耐磨性差别不大,但磨损形貌不同.涂层在水润滑环境下的磨损量均远远低于干滑动摩擦,其原因是水膜的支撑或隔离作用降低了涂层与磨轮之间的接触应力,水的冷却作用减少了摩擦热引起的温度升高,降低了涂层摩擦表面的温升和热软化.水润滑摩损条件下,WCm和WCn复合涂层中过饱和W元素发生扩散和聚集. 相似文献
9.
利用氩弧熔覆技术,以Ni粉、Mo粉、Zr粉、WC粉和B4C粉为原料,在Q235钢表面原位合成了(Fe,Mo,W,Ni)2B,(Fe,Mo,W,Zr)C0.7,(Fe,Mo,W,Ni,Zr)(B,C)增强α-Fe基复合材料涂层.借助扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机对复合涂层组织和性能进行了测试和分析.结果表明,复合涂层与基体呈冶金结合,复合涂层无裂纹、无气孔.原位合成的增强相弥散分布于熔覆涂层中;复合涂层具有较高的硬度,平均约1300HV左右;在室温干滑动磨损试验条件下,熔覆层具有优异的耐磨性能,其耐磨性约为基体的14倍. 相似文献
10.
SiC颗粒表面修饰及形成机理 总被引:3,自引:1,他引:2
为了改善SiC/金属基之间的润湿性,采用化学镀技术,对SiC颗粒的表面进行了Ni-P化学修饰,并研究了影响SiC颗粒表面Ni-P化学修饰的因素.采用SEM、EDS和XRD对修饰后的SiC颗粒进行了形貌表征和物相分析,并对其修饰机理进行了分析,确定了SiC颗粒表面修饰的最佳工艺参数.结果表明:酸性和碱性修饰液相比,在相同的条件下,碱性修饰液对SiC颗粒的修饰效果较好,修饰后的SiC复合粒子形状规则,SiC颗粒表面形成连续的表面修饰膜.最终确定的最佳试验工艺参数为:pH=8.5~9.0,t=(50±2)℃. 相似文献