超声辅助脉冲电沉积Ni-TiN复合镀层的结合力和耐蚀性

超声辅助脉冲电沉积综合了超声波空化效应的解团聚和搅拌作用以及脉冲电流瞬时电流密度高、电流参数可控等特点,是制备纳米复合镀层的有效方法.采用超声辅助脉冲电沉积技术制备了Ni-TiN纳米复合镀层,并用扫描电镜及能谱分析系统、显微硬度计、划痕仪和电化学工作站研究了Ni-TiN复合镀层的微观结构、结合力和耐蚀性.结果 表明:电流密度、脉冲占空比和超声功率对复合镀层中TiN复合量有一定影响.当电流密度为4 A/din2,占空比为40％,超声功率为300W时,复合镀层中TiN粒子复合量为9.98％(质量分数),显微硬度值为741 HV,复合镀层表面晶粒细小、平整致密,复合镀层与基底结合良好,结合力为704.77 MPa;同时复合镀层表现出较优的耐腐蚀性能.     

填埋场渗沥液污染控制技术比较

<正>据统计,我国城市生活垃圾处理方式大部分还是卫生填埋,根据相关建设标准规定,今后凡新建的垃圾填埋场,一定要把渗沥液的处理同步设计、同步使用,     

无掩模定域性电沉积-增材制造技术研究进展

无掩模定域性电化学沉积-增材制造技术是采用电化学沉积原理、摈除掩模与支撑、以增材制造方式实现三维金属微结构制造的一种新技术。本文综述了体现该技术核心内容与工艺特征的代表性技术:介绍了无掩模定域性喷射电化学沉积-增材制造技术和无掩模定域性直写电化学沉积-增材制造技术的基本原理和研究现状,分析了2种技术各自的特点、存在的问题和今后的研究发展趋势。     

微机硬盘的引导扇区及引导型软故障的解析与排除

本文对微机硬盘两种引导扇区的概念、内容加以分析,给出引导型软故障发生的现象、原因和排除方法。     

用Authorware创作CAI课件的策略与技巧

本文简单阐述了用Authorware创作CAI课件的一般策略和几点技巧。     

用Authorware创作CAI课件的策略与技巧

本文简单阐述了用Authorware创作CAI课件的一般策略和几点技巧。     

高密单软UCDOS汉字系统支持下的教学软件

本文给出了在只有一个高密软盘驱动器上如何制作、运行ＵＣＤＯＳ汉字系统支持下的ｄＢＡＳＥⅡ（或ＦｏｘＢＡＳＥ＋）数据库管理系统教学软件的一种方法．通过对ＵＣＤＯＳ汉字系统中的几个基本模块进行改造，然后将其和数据库管理系统ｄＢＡＳＥⅡ（或ＦｏｘａＢＡＳＥ＋）放在一张高密软磁盘上，从而可以实现从微机的启动引导到数据库操作的全过程单软盘运行．它既可满足只有一个高密软盘驱动器且无硬盘的微机用户和网络机终端的单独使用，又可避开公用机房中病毒的交叉感染，还可以减少操作过程中因反复更换磁盘所带来的不便和可能出现的误操作，从而有助于降低对微机硬件的配置要求，节约设备经费，提高实验课时的利用率，进而达到提高教学效果的目的．     

磁场方向对脉冲电沉积制备Ni-ZrO2 纳米复合镀层性能的影响

目的 研究有无磁场条件和垂直、平行两种磁场方向对脉冲电沉积制备Ni-ZrO2纳米复合镀层性能的影响。方法 以45#钢作为基体,采用脉冲电沉积和磁场-脉冲电沉积法成功制备Ni-ZrO2纳米复合镀层。利用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）观察纳米复合镀层的表面形貌、微观结构和表面粗糙度,利用显微硬度计、划痕仪、摩擦磨损试验机对纳米复合镀层进行显微硬度、结合力和摩擦磨损性能等力学性能研究。结果 相同工艺条件下,垂直磁场-脉冲电沉积条件制备的Ni-ZrO2纳米复合镀层的晶粒形状为金子塔状,镀层表面粗糙度有所改善,复合镀层显微硬度值最高,为370HV。平行磁场-脉冲电沉积条件下制备的Ni-ZrO2纳米复合镀层表面平整,均匀致密,复合镀层中Zr的质量分数为8.27%,表面粗糙度Ra和Rq值分别为82 nm和105 nm,镀层结合力为337 N,磨损量低于其他两种镀层的磨损量。结论 施加磁场后,在磁场MHD效应作用下,纳米复合镀层表面形貌平整,均匀致密,显微硬度提高,并且与基体结合性能和耐磨性都优于无磁场条件下制备的纳米复合镀层。平行方向磁场对Ni-ZrO2纳米复合镀层的力学性能有更明显的促进作用。     

找回被Windows Me系统下垃圾文件浪费的硬盘空间

本文给出了几种如何清除硬盘上的垃圾文件,找回被Win dows Me系统下垃圾文件浪费的硬盘空间的方法.