化学镀镍-钴-铁-磷镀层的结构和磁性能

采用H3BO3为缓冲剂、柠檬酸钠为络合剂，在弱碱性体系中化学沉积Ni-Co-Fe-P合金，运用能谱分析仪（EDS）、扫描电镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）研究镀液pH值对合金结构的影响。结果表明，随着镀液pH值增大，镀层中Fe和Co含量呈增加趋势而Ni和P含量趋于减少：镀层表面圆形颗粒呈密堆积，且随着镀液pH值的增加，圆形颗粒的粒径减小；镀态镀层呈非晶态结构。镀层在266．9℃晶化产生Fe-Co（Pm3m）相，在389．6℃生成亚稳相Ni8P3（R3c）和Co3Fe7（Pm3m）相，随后在500℃进一步晶化形成Ni3P（1-4）和Ni（Fm3m）相。随着热处理温度的升高，合金的饱和磁化强度和矫顽力呈增加趋势。     

Co-Gd合金在尿素-乙酰胺-NaBr熔体中的电沉积及合金性能

在尿素-乙酰胺-NaBr熔盐中采用电沉积方法制备了Co-Gd合金薄膜.运用循环伏安技术研究了Gd、Co的共沉积行为.通过扫描电子显微镜、X射线能谱仪和X射线衍射仪研究了电流密度对镀层表面形貌、元素组成及镀层结构的影响.研究发现,Gd含量随着电流密度的增加呈先增加后减少的趋势,在电流密度为12.5 mA/cm2时达到最大含量54.97%(质量分数).镀层的表面形貌随着Gd含量的增加而变得粗糙.镀态时镀层结构为非晶态,300 ℃热处理后转化为Co(Fm3m)相,在600 ℃热处理后又出现GdCo5 (P6/mmm)相.采用振动样品磁强计测试了镀层的磁性能.结果表明,镀层中Gd的含量对镀层的磁性能有重要影响.在热处理过程中,镀层的饱和强度在600 ℃热处理时达到最大值550.43 kA/m,而矫顽力则在400 ℃热处理时达到最大值34.97 kA/m.     

组成型过表达ido基因对4-羟基异亮氨酸合成的影响及其发酵培养基的响应面优化

为考察组成型过表达异亮氨酸羟化酶(isoleucine dioxygenase,IDO)基因ido对4-羟基异亮氨酸合成的影响,构建ido组成型表达质粒pXM01-ido及菌株HIL017,其ido转录量及IDO活性较诱导型过表达菌株HIL016显著提升,4-羟基异亮氨酸产量较HIL016提高19.4%。为进一步提高4-羟基异亮氨酸产量,通过Plackett-Burman试验确定HIL017发酵培养基中玉米浆、谷氨酸和FeSO4·7H_2O用量为主要影响因素,利用最陡爬坡试验和响应面法确定其最优用量为玉米浆34.1 mL/L、谷氨酸2.98 g/L、FeSO_4·7H_2O 0.016 7 g/L,此时4-羟基异亮氨酸理论产量为5.57 g/L。验证实验结果表明,最佳条件下4-羟基异亮氨酸产量为5.53 g/L,较优化前提高19.7%。     

Sb-Fe合金的电沉积及其结构与磁性能

以柠檬酸为络合剂、硼酸为缓冲剂的酸性镀液中电沉积Sb-Fe合金,循环伏安实验显示在镀液pH值为3.2时合金的起始共沉积电位约-0.855V(vs·SCE)。借助扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)、X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究了沉积条件对Sb-Fe镀层结构和磁性能的影响。结果表明,在镀液pH值为3.2时,随着阴极电流密度从20mA·cm-2增加到40mA·cm-2,镀层中铁含量从2at%增加到24at%;当阴极电流密度大于40mA·cm-2,镀层中铁含量又下降。Sb-Fe镀层含有Sb-Fe固溶体(R-3m)相以及少量的铁(Im3m)相。随着Sb-Fe镀层中铁含量的增加,镀膜的矫顽力减少而饱和磁化强度则增加。镀膜的矫顽力在1.2～1.7kA·m-1范围,属软磁材料。