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ZnO薄膜生长及声表面波性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用传统射频磁控溅射技术,通过引入Si O2缓冲层以及调节工作气压的方法,在Si衬底上制备具有高度(1120)择优取向的Zn O薄膜.采用X射线衍射技术和原子力显微镜分析Zn O薄膜的晶体特性和择优取向.研究发现,引入Si O2缓冲层能显著减小Zn O/Si O2/Si三层结构声表面波器件的温度延迟系数(temperature coefficient of delay,TCD),当Si O2缓冲层厚度为200 nm时,Zn O薄膜同时具有(0002)和(1120)择优取向,且TCD值仅为2×10-6℃-1左右,说明器件温度稳定性佳.当工作气压降低时,Zn O(1120)择优取向增强,相应的声表面波器件的机电耦合系数(K2)也增大.在大机电耦合系数和高温度稳定性的Zn O/Si O2/Si三层结构的基础上,有望制作出高性能的Love波声表面波生物传感器.  相似文献   
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特制的氧化钛薄膜由于其特有的优势广泛用于绿色能源领域。在这篇文章中,采用电子束蒸发系统制备氧化钛薄膜并分别在氢气和空气中退火,在氢气中退火的样品由于其稳定性强能在空气中保持淡黄色将近一年。氧化钛薄膜的结构,形貌,光谱和光催化性能被详细讨论。在氢气中退火的薄膜比在空气中退火的薄膜具有更好的光催化性能,结果表明氢气中退火的样品通过Ti3+掺杂能很好地调控电子结构从而提高光催化效率。Ti3+的存在缩小了带隙。  相似文献   
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