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用双层辉光等离子法在钛表面制备的Ti-Pd合金层性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用双层辉光等离子冶金技术在纯钛表面制备了Ti—Pd合金层。其深度大约为90μm,Pd含量呈梯度变化,并出现了TiPd3,TiPd2,Ti2Pd3,Ti3Pd5,TiPd,Ti4Pd等6种化合物相和Pd相。合金层在100℃的NaCl饱和溶液+HCl溶液以及40℃的8.6%H2SO4溶液中的耐缝隙腐蚀性能优于Ti0.2Pd合金;在室温80%H2SO4的溶液中,腐蚀速率仅为0.682mm/a,是Ti0.2Pd合金的18.2%:在室温30%HCl的溶液中,表面Ti—Pd的腐蚀速率仅为0.004mm/a,是Ti0.2Pd合金的12.5%。 相似文献
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钨涂层是最有希望的聚变堆偏滤器高热负荷面对等离子体材料。系统总结了钨涂层材料、连接及其制备研究进展,分析了钨涂层材料及其与热沉连接存在的问题,提出了偏滤器高热负荷面对等离子体钨涂层铁素体钢热沉材料(W/ODS)连续制备的发展方向,分析了钨涂层制备方法的优缺点,指出了电子束物理气相沉积(EBPVD)方法连续制备大面积的、显微结构可控的W/ODS的研发方向。 相似文献
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熔盐电解还原制备TiFe合金 总被引:5,自引:0,他引:5
在CaCl2熔盐中采用熔盐电解法由阴极的混合氧化物制备组分可控的TiFe合金。初步探讨了TiFe合金的形成机制,研究了电解时间对电解产物的影响。结果表明,混合氧化物的还原经历了从优先生成铁到逐步形成TiFe2、TiFe的合金化历程,中间产物包括CaTiO3、Fe:TiO4、TiO,电解过程中没有金属钛出现。扩散是混合氧化物熔盐电解反应的控制步骤。 相似文献
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简要介绍了SDH光传输系统中运行维护人员所应掌握的一些基本知识,结果实践总结了光设备发生故障时的定位原则,常见故障分类,故障定位及排除的常用方法,日常维护中所应维护的内容和对维护人员所提出的要求。 相似文献
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采用特殊工艺在Ta-12W表面制备过渡层,然后电镀出致密的铱涂层。研究了制备铱涂层的微观形貌、成分和抗氧化性能。分析表明,通过电镀的方法,可以在Ta-12W基体上制备出连续、均匀的铱涂层,在1700℃时涂层的抗氧化寿命可达到15min。 相似文献
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采用微弧氧化技术,以硅酸钠、磷酸钠溶液为电解液,在TC4钛合金表面制备出高硬度、高耐磨的微弧氧化膜层.用扫描电镜观测了膜层的显微结构,用X射线衍射分析其相组成,并对膜层进行了耐磨损和摩擦学性能实验.结果表明,膜层由过渡层、致密层和疏松层3层组成.其相组成主相为Al2TiO5,其次为Al2SiO5,并含有少量无定型SiO2.膜层的维氏硬度为8 470 MPa,是基体硬度的2倍多.采用45#钢作对磨副,载荷为5 kg,磨损时间20 min条件下,膜层的失重为0.25 mg,仅为基体的8%左右. 相似文献
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为改善溅射依涂层与钼基体之间的结合力,在钼基体与依涂层之间制备了钨粘结层,并成功在钼丝网上制备了双层的铱/钨涂层。研究表明,钨粘结层的制备能有效改善铱涂层与钼基体之间的结合力,从而有效抑制铱涂层的剥落。对于制备态的样品,W粘结层与铱涂层以及钼基体之间未出现明显的互扩散。X射线衍射结果表明,溅射铱涂层为多晶结构且呈(111)择优取向生长。根据Movchan-Demchishin模型,所制备的双层铱/钨涂层的显微结构与“1区”结构类似,该结构表明所制备的涂层横向结合力弱,在拉应力状态下易发生开裂。 相似文献
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