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传统磁控溅射的镀料粒子碰撞溅射脱靶后具有较低的离化率和沉积动能,致使制备的纯金属镀层极易形成带有微空隙的柱状结构,降低了镀层的致密性和膜基结合力。针对此问题,在磁控溅射环境下将阴阳极间的电流提升至气体放电伏安特性曲线中的弧光放电过渡区时,受靶面晶界和缺陷处电子逸出功低于晶粒内的影响,靶面微区会形成电子逸出的自增强效应,并产生弧光放电现象。弧光放电使靶面微区熔融,该区域的镀料粒子将以熔融喷溅的方式脱靶,凭借熔融喷溅的高产额特性提高镀料粒子的碰撞离化率,为实现镀层组织的调控打下基础。实验结果发现:本研究采用高频振荡脉冲电场,在逐步提升靶电流的过程中,靶面的微观形貌会由不规则的凹坑状形貌逐渐转变为圆形熔坑和沟壑状形貌,说明镀料粒子的脱靶方式由碰撞溅射逐渐转变为熔融喷溅。靶电流为2 A时,镀料粒子主要以碰撞溅射脱靶,制备的纯Al镀层呈现出典型的柱状组织,而在柱状组织间存在着微小间隙。靶电流增大至14 A时,镀料粒子以熔融喷溅脱靶为主,大量离化的镀料粒子可在基体偏压电场下加速沉积,提高了镀料粒子的扩散能力,弱化了镀层柱状生长的倾向,易使镀层形成致密的组织。同时,镀层的沉积速率和膜基结合力也会有明显提升。 相似文献
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对比研究了直流磁控溅射（dcMS）、高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）和调制脉冲磁控溅射（MPPMS）所沉积纳米晶TiN薄膜的组织结构与力学性能。结果表明,因dcMS溅射粒子离化率与动能均较低,薄膜表现为存在少量空洞的柱状晶结构,薄膜力学性能差、沉积速率为51 nm/min。HPPMS因具有较高的瞬时离化率和较低的占空比,薄膜结构致密而光滑,性能得到了显著改善,但平均沉积速率较低,仅为25 nm/min。通过MPPMS技术可大范围调节峰值靶功率和占空比,从而得到较高的离化率和平均沉积速率,薄膜结构致密光滑、力学性能优异,沉积速率达45 nm/min,接近dcMS。 相似文献
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王戎 《河北建筑工程学院学报》2002,20(3):42-44
我国大、中城市现已运行的供热系统,普遍存在着热效率低、供热成本高的缺点。其原因有设计方面的,也有运行管理方面的。本文通过对这些缺点的分析,提出了供热系统经济运行应采取的措施和建议。 相似文献
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根据数据的特点与格式,直接采用文本文档存储、查询数据的方法,实现了无数据库的数据计算、记录和查询功能的货车占用费测算系统,具有很重要的应用意义。 相似文献
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采用矩阵分析与有限元相结合的方法 ,综合考虑了压力容器连接系统各零部件刚性的相互影响。可以分析在不同予紧程度和操作压力时压力容器的密闭性能及各零部件应力变化的情况 ,为容器的密闭设计和疲劳强度分析提供更为合理的计算方法 相似文献
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本文论述了一次泵变水量空调水系统常用的自动控制方式，从绘制的系统通用控制图中可以得出，系统自平衡能力的高低直接影响整个系统的控制水平。 相似文献
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