NbF5前驱体化学气相沉积铌涂层的生长动力学

采用常压化学气相沉积方法在1150℃下成功制备了组织致密的金属铌涂层,沉积速率达到了250μm/h。通过对沉积后沿进气方向涂层厚度分析,确定了不同位置NbF_5、H_2、HF及Ar的摩尔分数,对数据进行拟合获得了与实验结果吻合较好的生长动力学方程。进一步分析动力学方程可知副产物HF对于沉积速率影响较大而Ar几乎没有影响。