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1.
不锈钢及镍基合金在高温水中的腐蚀研究   总被引:8,自引:0,他引:8  
王保峰 《腐蚀与防护》2001,22(5):187-190
为了开发超临界水氧化技术和超临界水电力技术,研究了五种不锈钢和一种镍基合金在192、292和392℃高温高压水中的耐腐蚀性。结果表明:在试验条件下,所有的合金都表现出某种程度的不稳定性,均匀腐蚀轻微,点蚀是主要的腐蚀形式。相比较而言,高合金不锈钢Sanicro28和镍基合金Ni825在该环境中表现出较好的耐蚀性。  相似文献
2.
低温无底釉搪瓷涂层制备及性能研究   总被引:3,自引:3,他引:0       下载免费PDF全文
吴静沛  卢建树 《表面技术》2014,43(4):130-134
目的制备一种低温一次烧成搪瓷涂料,并研究其性能。方法调整搪瓷配方中耐火与助熔化合物的配比,细化搪瓷粉体粒度,采用低温长烧工艺制备搪瓷涂料。通过SEM观察瓷层的微观结合形貌,考察密着性能,最后通过柠檬酸溶液处理测试其耐酸性能。结果最佳烧成工艺参数为:烧成温度780℃,烧结时间8 min。结论涂料密着性能良好,耐酸性能良好,在保证低温烧成的情况下,搪瓷涂料具备其他良好的性能。  相似文献
3.
YBCO涂层超导体的最新研究进展   总被引:3,自引:1,他引:2  
评述了目前国内外最具应用前景的YBCO涂层超导体的性能、结构特点及制备技术。介绍用轧制辅助双轴织构(RABiTS)和离子束辅助沉积(IBAD)法制备织构化金属基材及缓冲层的方法。着重介绍了YBCO超导涂层的几种主要制备方法,即脉冲激光沉积法(PLD)、液相外延法(LPE)、化学溶液沉积法(CSD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)等。  相似文献
4.
涂层超导体缓冲层的制备   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
综述了涂层超导体缓冲层的作用、可利用的材料及制备方法.着重介绍了几种制备缓冲层的真空及非真空方法,即磁控溅射法、脉冲激光沉积(PLD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、电沉积等.展望了对下一步涂层超导体缓冲层的制备.  相似文献
5.
化学蚀刻 304 不锈钢表面结构研究   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
张永成  卢建树 《表面技术》2015,44(1):122-126
目的:研究化学蚀刻304不锈钢表面结构类型、形成过程及其应用。方法以304不锈钢为对象,以FeCl3系溶液为蚀刻剂,采用化学蚀刻的工艺,通过表面分析和SEM等手段,研究化学蚀刻的过程以及表面结构的类型。结果在40°常压下,250 g/L FeCl3中使304不锈钢表面光滑的盐酸用量( y)与硝酸用量(x)满足一定的关系:y=19.37+0.13x±0.5,x≤120 mL/L;y=-8.67+0.62x±0.5,x≥130 ml/L。溶液中Cl-含量是影响蚀刻后不锈钢表面的平整度的主要因素。结论改变蚀刻溶液性质可以改变蚀刻后304不锈钢表面形成的结构。  相似文献
6.
Corrosion studies of a commercially pure titanium in phosphoric acid solutions at 250 ℃ were carried out by immersion test in an autoclave. At lower phosphoric acid concentration (0.1 mol/L), the corrosion was mild. At higher phosphoric concentration (1.0 mol/L) corrosion, a 25 μm-thick white corrosion products layer was formed on the samples after 24 h immersion. XRD analysis shows that the white layer consists mainly of titanium oxide phosphate hydrate (π-Ti2O(PO4)2·2H2O). The corrosion product shows the morphology of fiber bundles. A thermodynamic analysis of the formation of the corrosion product is presented.  相似文献
7.
姚远  卢建树  吴敏 《腐蚀与防护》2008,29(9):544-546
介绍了低碳钢在氮气保护下与水蒸气的发黑反应,重点分析了温度对发黑膜层性能的影响.通过对不同温度下样品的初步检测,作出了温度、膜厚及力学性能的关系图,并得到了较适宜的反应温度.利用Debye-Scherer公式,结合XRD电子衍射数据,估算出膜层晶粒尺寸约为27~39 nm.扫描电镜图显示,该膜层结构致密,微孔极少,且表面晶粒大小趋于一致,从直观上验证了XRD的计算结果.  相似文献
8.
丁月  卢建树 《表面技术》2014,43(2):100-104,149
目的结合金属辅助化学湿法刻蚀原理,在单晶硅表面制备高效减反的微纳米结构。方法以单晶硅为基体,提出用Cu2+作为催化剂,在单晶硅表面两步化学刻蚀出多种微纳米减反结构,运用SEM/AFM表面分析方法,对形成的表面形貌和制备工艺进行分析,详细介绍了铜离子催化作用下制备微纳米结构的机理、反应现象及主要影响因素。结果铜离子催化化学刻蚀单晶硅可以得到均匀分布的微纳米减反结构,所得结构在250~800 nm范围内的反射率达5%以下。结论与传统碱性刻蚀技术相比,该技术所得微结构具有更高的光吸收率,并且稳定性好,容易控制。  相似文献
9.
1 INTRODUCTIONAtpresent,tremendousamountoforganicwasteshasbeenproducedinmanybranchesofindustryeachyear.Manyofthemhavehazardouseff  相似文献
10.
以低浓度硫酸溶液为主液 ,添加硼酸或磺基水扬酸、乳酸以及丙三醇等具有缓蚀及缓冲作用的物质组成混合电解液 ,在常规硫酸阳极氧化膜上获得均匀不透明白色膜层 ,通过电流密度—时间关系曲线 ,发现形成不透明白色膜特有的“电流回落现象”。性能测试表明 ,二次电解制得的不透明白色氧化膜厚度及耐蚀性与常规硫酸阳极氧化膜相当 ,而硬度较差 ,但仍能满足常规装饰性能要求。  相似文献
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