蓝光过滤多层功能薄膜的遗传算法设计

目的设计出一种在380~455 nm波段具有高反射率,但在500~760 nm波段具有低反射率的多层薄膜结构。方法采用遗传算法,采取截断选择策略,并引入小生境技术,选择灵活性较好的容差型评价函数,通过改变目标反射率,使功能薄膜在可见光波段具有增透与增反两种特性。采用八层不同折射率材料交替结构,计算得出满足光谱特性要求的全局膜系结构参数。结果当材料为硫化锌和氟化镁,厚度为324、142、68、46、51、51、56、145 nm时,380~455 nm波长处的平均反射率高达88.54%,500~760 nm波长处的平均反射率仅为2.00%。由几种常用光学薄膜材料的不同搭配,发现材料的折射率差与两波段的平均反射率差呈现相同趋势。当两种材料的折射率差为0.92时,两波段的平均反射率差为86.54%。结论采用的遗传算法可以简单有效地对多层薄膜结构进行优化,为获得较为理想的蓝光过滤功能薄膜,应尽可能选择折射率差大的两种材料。     

辉光放电发射光谱高分辨率深度谱的定量分析

介绍了辉光放电发射光谱仪（GDOES）的发展和应用领域,以及测量深度谱定量分析的MRI模型．主要对单晶硅表面自然氧化的SiO²层、单层硫脲分子和Mo/B⁴C/Si多层光学膜进行了GDOES高分辨率深度谱的定量分析,由此获得了膜层结构、界面粗糙度及元素溅射速率等定量信息．同时,对Mo/Si多层膜GDOES与SMIS深度分辨率进行了比较,最后展望了GDOES和MRI模型的发展趋势．      

电极与介电层褶皱接触对压电式柔性电子皮肤性能的影响

提出了一种基于压电效应制备柔性电子皮肤的简单方法。为了研究纳米改性对柔性电子皮肤各层性能的影响，首先以纳米SiO₂粒子作为改性体，以聚二甲基硅氧烷(PDMS)作为基体，制备出SiO₂/PDMS复合柔性衬底，解决了在PDMS上磁控溅射沉积电极材料产生裂纹的现象，成功获得能够稳定工作的柔性电极。然后用钛酸钡/碳纳米管/聚二甲基硅氧烷(BaTiO₃/CNTs/PDMS)复合材料作为功能层，制备出一种五层结构的高灵敏性柔性电子皮肤，并找到一种通过改变基板粗糙度的简单方法构建电极与介电层的褶皱接触，进而提升柔性电极的电导率与柔性电子皮肤的压电响应信号。      

三种溅射深度剖析定量分析模型解析表达式的比较

本文系统地讨论了三种广泛应用于溅射深度剖析定量分析的原子混合-粗糙度-信息深度（MRI）模型、上下坡（UDS）模型与粗糙度-级联混合-反冲注入（RMR）模型的解析表达式。先从定义、公式推导、仿真结果分析三方面逐一分析了这三种模型对应的剖面特征，再通过其对应的深度分辨率子函数、深度分辨率函数、分析膜层厚度的解析表达式以及实验数据的拟合，将三种模型进行了细致的比较。最后解释了上下坡模型存在的不足，纠正了粗糙度-级联混合-反冲注入模型存在的错误描述，实测/模拟深度剖面的动态特性验证了原子混合-粗糙度-信息深度模型的可靠性和优越性。     

高分辨率钼/硅纳米多层膜TOF-SIMS和Pulsed-RF-GDOES深度谱的定量分析

飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）和脉冲射频辉光放电发射光谱（Pulsed-RF-GDOES）是两种重要的深度剖析技术，前者广泛应用于半导体工业的质量控制，后者主要应用于工业涂层及表面氧（氮）化层的分析。Mo/Si纳米多层膜由于其出色的反射特性被广泛应用于纳米光刻、极紫外显微镜等领域。本文利用原子混合-粗糙度-信息深度（MRI）模型分辨率函数，通过卷积及反卷积方法分别对Mo(3.5nm)/Si(3.5nm)多层膜的TOF-SIMS和Pulsed-RF-GDOES深度谱数据进行了定量分析，获得了相应的膜层结构、膜层间界面粗糙度及深度分辨率等信息。结果表明：GDOES深度剖析产生了较大的溅射诱导粗糙度，SIMS的深度分辨率优于GDOES。