低压等离子喷涂技术在功能性涂层的应用进展

与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层。介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技术清洁、高速、长焰流、预热、电清理的工艺优势,说明了低压等离子喷涂技术在热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料等功能性涂层制备上的应用,最后从完善相关理论、与其他技术联用、工艺在线可控、气氛压力更低等方面,以及在航空、航天、电子等领域的运用,对低压等离子喷涂技术的发展进行了展望。     

化学气相沉积法制备 TiB2涂层工艺的研究

以TiCl4-BCl3-H2为反应体系,采用化学气相沉积技术,在低碳钢和石墨表面成功沉积了TiB2涂层,并研究了沉积温度、气体流量和基体类型对涂层显微结构和显微硬度的影响.结果表明:沉积温度较高时,低碳钢表面的TiB2涂层晶粒取向随机,结晶度较好,沉积温度较低时则呈柱状晶,晶粒取向随机时的显微硬度高于呈柱状晶时的显微硬...     

化学气相沉积技术制备TiB2涂层研究

利用TiCl4-BCl3-H2—Ar反应体系，用化学气相沉积法（CVD）在石墨基体上沉积了TiB2涂层，研究了CVD工艺如沉积温度、气体流量、滞留时间等参数对涂层的物相组成、微晶尺寸、沉积速率、沉积形貌的影响。结果表明，沉积的涂层物相由TiB2组成，随着温度的升高，微晶尺寸增大；当沉积温度为900-950℃、气体总流量...     

钛合金表面阴极微弧电沉积Al2O3-SiC复合涂层

通过高温烧结法在TC4钛合金表面制备了起弧阻挡层,然后采用阴极微弧电沉积工艺在TC4钛合金表面制备了Al2O3-SiC复合陶瓷涂层,重点研究了复合陶瓷涂层的制备工艺及影响因素,并采用扫描电镜、能谱仪等观测了起弧阻挡层及复合陶瓷涂层的表面微观形貌及成分组成。结果表明,阴极微弧电沉积技术能够在钛合金表面制备出Al2O3-SiC复合涂层,且起弧阻挡层至关重要,为起弧必备条件,SiC在Al2O3基体中的分散性较好,涂层较厚且分布均匀。     

化学气相沉积钨涂层及抗烧蚀性能研究

利用X射线荧光能谱仪、扫描电镜及其能谱仪和显微硬度计等方法对CVD法制备的钨涂层进行了成分、显微组织分析,并测试了其显微硬度以及抗烧蚀性能.研究结果表明,采用化学气相沉积法,能在炮钢基体上制备致密均匀的高纯钨涂层,其纯度大于99.9%,并且钨涂层具有典型的柱状晶体结构,同时具有良好的抗烧蚀性能.     

花键轮套浮动凹模冷挤压工艺研究

花键轮套是摩托车发动机中的关键零件.轮套与飞轮,一种是止口定位,铆钉铆接的连接;另一种是通过渐开线小模数花键定位,并将轮套花键局部塑性变形加以固定.后一种连接方式工艺性较好,但对花键轮套的综合机械性能(几何线性尺寸,渐开线花键尺寸,硬度值)要求较高.对50F、55K、90F、HM125、WYl25轮套进行工艺方案分析及比较,采用了浮动凹模冷挤压新工艺;工艺获得了成功,满足了用户对产品的要求,实现了国产化,替代进口产品,获得了较好的社会效益和经济效益.     

SiC涂层的快速气相沉积

介绍了一种采用化学气相沉积技术，利用SiCl4 CH4体系快速沉积SiC涂层的方法，并讨论了工艺条件对沉积过程的影响．结果表明，采用SiCl4 CH4体系在900℃便可实现SiC的快速沉积，此方法所得SiC涂层的纯度不高，但适用于制备构件的抗烧蚀涂层．     

MC-C/C复合材料烧蚀机理及其制备方法的研究进展

C/C复合材料在高温下的氧化烧蚀严重制约了该材料在航空航天领域的推广应用,应用难熔金属碳化物(MC)可以明显提高其抗氧化耐烧蚀性能。重点总结了国内外近几年来应用难熔金属碳化物(MC)提高C/C复合材料高温抗氧化耐烧蚀性能的机理及制备方法的研究现状,指出目前存在的不足,并提出了今后潜在的发展方向。     

均匀化退火对32Cr2Mo2NiVNb钢组织和性能的影响

采用光学显微镜、扫描电镜分析技术,并结合力学性能测试,研究了32Cr2Mo2NiVNb钢在1100 ℃均匀化退火不同时间(0～8 h)对其组织和力学性能的影响.结果表明,均匀化退火可明显改善材料带状偏析,同时可较大幅度提高材料的横向冲击韧性.经1100 ℃×8 h均匀化退火后,材料带状组织基本消除,横向冲击韧性由42 J/cm 2提高到60 J/cm 2.     

7A55铝基表面微区等离子烧结复合 陶瓷涂层的工艺与机理

目的 通过优化电解液配方和电参数输出模式,得到改性微弧氧化新工艺,制备出综合性能优良的SiO2-Al2O3复合陶瓷涂层。方法 采用碱性硅酸盐体系电解液为诱发起弧剂,加入80~150 mL/L的碱性硅溶胶溶液和60~80 g/L蔗糖等成分为辅助添加剂,同时在电参数中加入负电参数,在7A55铝合金基体表面完成了SiO2-Al2O3复合陶瓷涂层的制备。采用SEM和EDS等测试方法分析了复合陶瓷的微观形貌和组成元素,并与制备单一Al2O3陶瓷涂层的微弧氧化工艺进行对比,分析新工艺的成膜机理。结果 改性新工艺能够在7A55铝合金基体表面制备出SiO2-Al2O3复合陶瓷涂层,厚度达到100 μm以上,其制备效率相比微弧氧化制备单一Al2O3陶瓷涂层提高了2~3倍。复合陶瓷涂层由表及里,Al2O3含量增加,SiO2含量减少,表面呈致密的球形颗粒状,没有单一Al2O3陶瓷涂层的微裂纹和大量烧蚀孔洞。新工艺除了微区放电形成微区等离子弧烧结,得到Al2O3陶瓷涂层外,还有SiO2的吸附沉积,为吸附与烧结综合作用过程。结论 加入含纳米SiO2的碱性硅溶胶等成分改性电解液,有利于改善陶瓷涂层结构,提高致密性。