共沉积晶态Ni-P-W-Nb2O5复合镀层的性能研究

利用晶态镀液在钕铁硼磁性材料基体表面共沉积Ni-P-W-Nb_2O_5复合镀层,对镀层的电化学性能、共沉积镀层与基体的结合性能及镀层的显微硬度进行测试。结果表明:当晶态镀液中Nb_2O_5颗粒的质量浓度为5~15 kg/m3时,共沉积Ni-P-W-Nb_2O_5复合镀层的电化学性能及其与基体间的结合强度随镀液中Nb_2O_5颗粒浓度的增加而增加;当镀液中Nb_2O_5颗粒的质量浓度由15 kg/m3增加到20 kg/m3时,镀层的电化学性能及其与基体间的结合强度有所下降。显微硬度测试结果表明,共沉积Ni-P-W-Nb_2O_5复合镀层的硬度随着镀液中Nb_2O_5颗粒浓度的增加呈单调增加趋势。     

近晶C(Sc)相串型液晶高分子的合成与表征(Ⅱ)

以含液晶基元的单体２，５－二－对苯二酚和不同结构的脂族二酰氯，采用低温溶液缩聚的方法，合成了一系列新的液晶基元垂直于分子主链的Ｓｃ相串型液晶高分子。单体的结构通过结构元素分析、ＩＲ、＾１Ｈ－ＮＭＲ和ＭＳ等方法确证。     

近晶C(S_C)相串型液晶高分子的合成与表征(Ⅱ)

以含液晶基元的单体 2 ,5-二 (对异烷氧基苯甲酰氧基 ) -对苯二酚和不同结构的脂族二酰氯 ,采用低温溶液缩聚的方法 ,合成了一系列新的液晶基元垂直于分子主链的 SC相串型液晶高分子。单体的结构通过元素分析、IR、1H-NMR和 MS等方法确证。聚合物通过 GPC、DSC、TG、WAXD和偏光显微镜等方法测试表征。研究发现 ,所有的聚合物加热至各自的熔点以上都能形成液晶态 ,在液晶态可以观察到破焦锥织构 ,通过变温 X射线衍射证明它们为 SC相。所有聚合物的熔点和液晶态的清亮点随分子中末端烷氧基增大和柔性间隔段长度增加逐渐降低 ,液晶态温度范围变窄。     

玉石洼选厂合理精矿品位的探讨

为使企业获得最佳经济效果,合理利用矿产资源,80年8月由邯邢冶金矿山局有关单位和华北矿建设计院组成试验研究小组,对玉石洼选厂合理精矿品位进行了探讨。首先,对选厂投产以来的生产技术经济指标进行了调查分析,于80年9月和12月分别作了磨机不同台时产量的三次流     

带式输送机输送带与滚筒之间的打滑分析

针对带式输送机在正常稳定运行时和在满载起动运行时输送带与滚筒之间的打滑问题进行了分析比较。阐明了带式输送机在正常稳定运行时受到的阻力小于在满载起动运行时受到的阻力 ,在正常稳定运行时打滑的可能性小于在满载起动运行时打滑的可能性。因此 ,在校核带式输送机打滑问题时 ,就应该考虑到满载起动时的打滑问题 ,并提出了应用软起动技术解决满载起动时的打滑问题     

氧化物颗粒增强 Ni-W-P / Nb2 O5 复合镀层制备及其耐腐蚀性能

目的对NdFeB磁性材料进行表面防护处理,改善其耐腐蚀性能。方法利用化学镀方法,在NdFeB基体材料表面制备氧化物颗粒增强的晶态和非晶态Ni-W-P/Nb2O5复合镀层,对镀层的组织形貌、元素组成分布及物相进行分析,并通过化学腐蚀失重法对耐腐蚀性能进行测试。结果当镀液中的次亚磷酸钠含量为20 g/L时,形成了晶态镀层;为35 g/L时,形成了非晶态镀层。晶态和非晶态Ni-W-P/Nb2O5镀层均由胞状突起组成,其中弥散分布着共沉积的Nb2O5颗粒。镀层样品的XRD图谱中没有出现与钕铁硼相关的衍射峰。对于制备的晶态和非晶态复合镀层,镀液中Nb2O5质量浓度由5 g/L增加到15 g/L时,化学腐蚀速率明显下降;Nb2O5质量浓度由15 g/L增加到20 g/L时,化学腐蚀速率的下降变得缓慢。结论利用化学镀可以在NdFeB磁性材料表面制备致密的Nb2O5增强Ni-W-P复合镀层,且随着Nb2O5含量的增加,复合镀层的耐腐蚀性能提高。