离散自由搜索算法

针对离散组合优化问题，给出一个自由搜索的算法。但是仅仅通过自由搜索算法求得的解，往往存在交叉现象，针对这个问题提出将离散自由搜索算法和交叉消除相结合的算法，这样不仅大大地提高了自由搜索算法运算过程的收敛速度，而且较大程度地提升了结果的质量。利用旅行商问题(TSP)标准库中的测试数据对所提算法进行了验证，结果表明该算法比遗传算法性能提高了约1.6%。     

生条中纤维左头端的分布

为进一步探究纱条中纤维的分布规律,模拟纱条中纤维的排列情况,对纤维左头端沿纱条轴向服从均匀分布的假设进行实验验证。通过示踪纤维的方法测定若干给定长度的生条片段中染色纤维的左头端数,并利用χ~2拟合检验法对所测数据进行检验。结果表明:生条中纤维左头端沿生条轴向服从均匀分布的假设是合理的;通过改变染色纤维的几何特征、种类及所取生条的片段长度考察了对纤维左头端数的影响,证明了所取生条的片段长度对纤维左头端沿生条轴向服从均匀分布的结论没有显著影响,最终为预测纱条的性能提供了基础。     

关于两类多元分式函数的极限存在性的注记

阐述了二元分式函数在坐标原点的极限问题.针对分子的不同情形,给出了两类二元分式函数的极限存在判别定理,得出了更一般化的判定定理.     

第三组元铝元素对TaMo高温合金涂层组织和性能的影响

通过磁控溅射法在硅基材上制备了不同基底温度的TaMo和TaMoAl涂层,用原子力显微镜（AFM）和X射线衍射仪（XRD）研究了加入第三组元Al元素的情况下,TaMo涂层的表面形貌和组织结构,用显微硬度计和划痕试验仪测试了涂层的显微硬度和膜基结合力等力学性能。结果表明,两种基底温度工艺下铝元素的加入对TaMo涂层的组织结构和表面形貌均有显著影响。另外,在350℃的基底加热工艺下铝元素的加入提高了TaMo涂层的显微硬度和膜基结合力。     

磁控溅射制备Al-Cu-Fe薄膜不同溅射时间的生长行为

采用磁控溅射法在硅基材上制备了Al-Cu-Fe薄膜,采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)研究了不同溅射时间下Al-Cu-Fe薄膜的生长行为。结果表明,随着溅射时间的延长,Al-Cu-Fe薄膜的β晶相的衍射峰半峰宽逐渐减小,而λ晶相的衍射峰半峰宽则逐渐增大。Al-Cu-Fe薄膜的生长依次经历了小岛形核阶段、小岛结合阶段、连续薄膜阶段、晶粒长大阶段等4个阶段。另外,随着溅射时间的延长,Al-Cu-Fe薄膜的粗糙度呈现出先增大后减小的趋势。     

不同工艺对TaN薄膜组织与性能的影响

用磁控溅射法在硅基材料上制备TaN薄膜,用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)研究不同工艺下磁控溅射TaN薄膜的表面形貌和组织,用纳米压痕仪和CHI电化学分析仪测试薄膜的力学性能和耐腐蚀性能。结果表明,基底加热和退火处理均导致TaN薄膜组织发生六方结构TaN(110)向面心立方结构TaN(111)和TaN(331)的转变。另外,基底加热和退火处理工艺均改善了TaN薄膜的显微硬度和膜基结合力等力学性能,其断裂韧性和耐腐蚀性能有所降低。     

TiN薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展

综述了TiN薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种TiN薄膜的制备方法,评述了各种制备工艺的优缺点.介绍了TiN薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展,最后对TiN薄膜的应用范围和领域作了展望.     

关于齐次多项式分解的一个注记

针对多元多项式因式分解困难问题,给出了齐次多项式分解的一个原理,并利用此原理和Maple软件实现了齐次多项式的高效率分解.     

一类奇异积分算子的广义逆及其证明

根据开口弧段上奇异积分方程解在端点处的不同要求,选取合适的权函数并构造一类Banach空间及奇异积分算子.讨论了该奇异积分算子的广义逆,为后续开口弧段上奇异积分方程的逼近解法求解提供了基础.     

单时期证券市场中对数效用函数的投资组合

研究了单时期证券市场中基于对数效用函数的投资组合问题.利用风险中性估值法,推导出投资组合问题的最优值.通过实例,利用一阶必要条件和风险中性计算方法求解出最优交易策略,并验证了这两种方法的一致性.