首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   7195篇
  免费   356篇
  国内免费   297篇
电工技术   440篇
综合类   342篇
化学工业   395篇
金属工艺   916篇
机械仪表   1383篇
建筑科学   176篇
矿业工程   228篇
能源动力   88篇
轻工业   177篇
水利工程   44篇
石油天然气   83篇
武器工业   92篇
无线电   912篇
一般工业技术   470篇
冶金工业   195篇
原子能技术   73篇
自动化技术   1834篇
  2024年   26篇
  2023年   74篇
  2022年   120篇
  2021年   165篇
  2020年   181篇
  2019年   109篇
  2018年   131篇
  2017年   192篇
  2016年   171篇
  2015年   247篇
  2014年   372篇
  2013年   311篇
  2012年   469篇
  2011年   481篇
  2010年   322篇
  2009年   357篇
  2008年   323篇
  2007年   502篇
  2006年   479篇
  2005年   416篇
  2004年   329篇
  2003年   325篇
  2002年   243篇
  2001年   207篇
  2000年   219篇
  1999年   208篇
  1998年   165篇
  1997年   139篇
  1996年   124篇
  1995年   95篇
  1994年   60篇
  1993年   58篇
  1992年   45篇
  1991年   25篇
  1990年   30篇
  1989年   26篇
  1988年   10篇
  1987年   17篇
  1986年   10篇
  1985年   11篇
  1984年   7篇
  1983年   11篇
  1982年   6篇
  1981年   8篇
  1980年   2篇
  1979年   6篇
  1978年   2篇
  1977年   3篇
  1976年   3篇
  1975年   5篇
排序方式: 共有7848条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
介绍了电缆气压保气率计算机统计系统开发的目的和意义,系统程序的流程和结构,以及系统程序的编制和应用。  相似文献   
2.
Chemical mechanical polishing of polymer films   总被引:2,自引:0,他引:2  
Strategies to reduce capacitance effects associated with shrinking integrated circuit (IC) design rules include incorporating low resistivity metals and insulators with low dielectric values, or “low-κ” materials. Using such materials in current IC fabrication schemes necessitates the development of reliable chemical mechanical polishing (CMP) processes and process consumables tailored for them. Here we present results of CMP experiments performed on FLARE™ 2.0 using a specialized zirconium oxide (ZrO2) polishing slurry. FLARE™ 2.0 is a poly(arylene) ether from AlliedSignal, Inc. with a nominal dielectric constant of 2.8. In addition, we provide insight into possible removal mechanisms during the CMP of organic polymers by examining the performance of numerous abrasive slurries. Although specific to a limited number of polymers, the authors suggest that the information presented in this paper is relevant to the CMP performance of many polymer dielectric materials.  相似文献   
3.
本文介绍了广播发射台利用计算机技术、网络技术、遥控遥测技术、现代测试手段,对设备进行自动化控制与管理;实现设备技术指标自动测试,发射台无人值班、有人留守,建立机器的计算机档案制度,确保安全优质播出的方法和经验。  相似文献   
4.
对二阶A型Cooper变换进行增强,放宽可用性条件,并证明了其正确性,最后举例说明其应用。  相似文献   
5.
印建平 《光电工程》1994,21(4):42-47
提出了一种快速自动测试光栅光谱衍射效率的新方法。重点推导了测试平面光栅绝对光谱衍射效率与相对光谱衍射效率公式,介绍了双光束高精度自动测试光栅光谱衍射效率曲线的基本原理、方案与方法,并分析了测试精度。研究表明,本方案的测试速度和精度均比一般测试方法提高一倍,并能有效地消除光源波动对测量结果的影响,测量误差小于5×10-3。  相似文献   
6.
Enhanced Image Detection on an ARM based Embedded System   总被引:2,自引:0,他引:2  
This paper presents a new technique for thedetection of Integrated Circuits within images of Printed Circuit Boards autonomouslyand without the need to be assisted by CAD data. The technique is a key partof a suite of algorithms targeted for an embedded System On Chip architecturebased on the ARM7 platform for real time detection of PCB images for diagnosticpurposes. The technique has a significant reduction in complexity when comparedto conventional approaches such as the Hough Transform. The reduction in complexitymakes the approach ideal for an embedded vision application suchas the one described in this paper. This paper presents the technique, thetarget embedded architecture and results showing the reduction in complexitywhen compared to a Hough Transform.  相似文献   
7.
黎建明  屠海令  郑安生  陈坚邦 《稀有金属》2003,27(2):299-302,313
用透射电子显微镜、扫描电镜对锑化镓材料切、磨、抛等加工工艺引入的表面损伤进行观察和检测。结果表明:切割加工是锑化镓单晶晶片表面损伤层引入的主要工序;锑化镓单晶切割片表面极不平整,有金刚砂所引起的较粗桔皮皱纹;其表面损伤层深度≤30μm;双面研磨的锑化镓晶片表面仍有较粗桔皮皱纹,但比切割片的要细,而且桔皮皱纹的深浅随磨砂(Al2O3)粒径的减小而变细变浅;晶片的表面损伤层深度(≤5μm)也随着磨砂粒径的减小而减小。一般情况下,其损伤层的深度约为磨砂粒径的1/2。机械化学抛光加工的锑化镓晶片表面的SEM像观察不到桔皮皱纹;其损伤层深度约55nm。  相似文献   
8.
张锦 《光电工程》1996,23(1):53-58
介绍了计算机光学零件图自动绘制软件系统的功能,给出了用该软件完成的光学零件图图样,对程序设计过程中的难点及处理方法也进行了详细阐述。  相似文献   
9.
We present a formal model of asynchronous communication between two digital hardware devices. The model takes the form of a function in the Boyer-Moore logic. The function transforms the signal stream generated by one processor into that consumed by an independently clocked processor, given the phases and rates of the two clocks and the communications delay. The model can be used quantitatively to derive concrete performance bounds on communications at ISO protocol level 1 (physical level). We use the model to show that an 18-bit/cell biphase mark protocol reliably sends messages of arbitrary length between two processors provided the ratio of the clock rates is within 5% of unity.  相似文献   
10.
Large technical systems need to be designed both reliable and efficient. Specialized design tools offer therefore a simplified, abstract design and extend details autonomously in the background. Analytic and simulation based models could improve the quality by testing and dimensioning the design before implementation, but setting up the necessary models is time-consuming and expensive. Therefore many developers ask for analysis tools which are able to create their models from the available information in the design tools. This paper presents such an automated modeling approach basing on an existing design database at the example of a network analysis for building automation fieldbuses. The process of automated modeling is unfolded, and the potentials and limitations are discussed.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号