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采用磁控溅射法在玻璃基片上沉积LaB6薄膜。通过改变溅射功率参数,获得最佳制备工艺条件。采用XPS、X射线衍射仪和分光光度计研究薄膜的成分、结构、晶向以及透过率。当溅射功率为44 W,氩气气压为1.5 Pa,氩气流量为27 sccm时制备的LaB6薄膜表面相对平整,结构致密。 XRD数据也表明,此时LaB6薄膜结晶度最高且(110)晶面发生明显的择优生长。同时分光光度计结果显示:薄膜的透过率随溅射时间的增加而降低,并且最高透过率对应的波长没有发生变化。 相似文献
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目的 研究磁控溅射制备金属Ir膜的过程中溅射参数对Ir膜表面微结构和晶体质量的影响,制备高质量(100)取向的外延Ir膜,为单晶金刚石的异质外延生长奠定重要基础。方法 通过磁控溅射技术在单一改变参数(溅射功率、溅射厚度)的条件下制备金属Ir膜,通过分析原子力显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射、电子背散射衍射等测试结果,研究了各条件对所制备Ir膜粗糙度、表面形貌、晶体结构和取向的影响,并通过摇摆曲线衡量真空退火对薄膜晶体质量的优化效果。结果 在(100)MgO衬底上外延生长的Ir膜具有均匀的微结构,该结构由规则且紧密的矩形颗粒排列而成。薄膜表面微结构特征尺寸随溅射功率升高而逐渐减小;当功率为45 W时,Ir(200)X射线衍射峰强度最大、半高宽最宽;而随着厚度的增大,Ir(200)X射线衍射峰的半高宽及强度均增大。经优化的Ir膜表面光滑(Ra<0.5nm)、薄膜晶体质量高(θFWHM<0.5°)。结论 功率、厚度和退火处理都会影响薄膜晶体质量和表面微结构尺寸,合适的功率和厚度结合退火处理能获得具有特定表面微结构的高质量Ir膜。 相似文献
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利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜,采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数,测量能量范围为1.5~4.5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明,在低能区域,样品的所有光学常数均随压强增加而增加,受制备工艺影响较大。但在高能区域,光学常数随压强的变化相对说来不再明显. 相似文献
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固体氧化物燃料电池阳极材料的流延制备和电池性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用流延法制备NiO-YSZ阳极,采用磁控溅射、多层流延法制备YSZ电解质薄膜,丝网印刷制备BSCF-YSZ阴极,制备出Ni-YSZ/YSZ/BSCF-YSZ单电池。阳极制备中探索了浆料配比对生坯性能的影响;研究了不同造孔剂得到的流延阳极的微结构形貌差异。考察了双层流延、磁控溅射制备YSZ薄膜的微观结构,并测试评价了电池性能。 相似文献
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