云制造服务质量评价

为了更好地实现云制造平台中的服务匹配,提出云制造系统中针对服务提供商的选择准则,建立了一般评价指标体系和可扩展的量化模型。提出项目协同的方法以校正指标数值,根据项目协同的三角模糊数算法计算提供商服务和需求者期望的相似度,取得服务质量综合性能排序。结合算例,对该指标体系、数据获取方法和模型进行了验证,结果表明所提出评价指标、属性值计算方法和评价模型具有实际可操作性,能够帮助平台准确地选择最佳服务。     

沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响

采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜. 利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外-可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析.XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的(002)和(101)两种取向,在沉积气压＞1.0Pa时所制备的ZnO薄膜具有(002)择优取向,并且非常稳定.SEM图表明,ZnO晶粒大小较为均匀,晶粒尺寸随着气压升高而变小.在400～1000nm范围内,ZnO薄膜的可见光透过率超过80%,吸收边在370nm附近,所对应的光学带隙约为3.33～3.40eV,并随着沉积气压上升而变大.     

低压TiO_2系压敏陶瓷的伏安特性实验分析

采用耗尽层近似理论,分析了低压TiO2系压敏陶瓷在直流偏压下的伏安特性,并对ZnO、TiO2和SrTiO3系三种压敏陶瓷的伏安特性进行了测试、分析和比较。结果表明,在晶界势垒不太高(一般为零点几电子伏)及晶界电场强度不太大(约106V/m量级)的情况下,TiO2系压敏陶瓷晶界的电子传输机制不同于ZnO系压敏陶瓷,而与SrTiO3系压敏陶瓷的导电机制相似,属于肖特基热电子发射机制。     

脉冲偏压作用下MgO薄膜表面的荷电效应

采用脉冲偏压电弧离子沉积技术在玻璃基片上制备了透明的、具有择优取向的MgO薄膜。针对绝缘性薄膜表面的荷电效应,比较了脉冲偏压作用下鞘层对离子的加速时间(即鞘层的寿命)与脉冲宽度的大小以及偏压鞘层的初始厚度与离子穿越的距离的大小,讨论了不同占空比下偏压鞘层对离子的加速效应。利用X射线衍射及扫描电子显微镜对样品的观察结果表明,由于荷电效应,脉冲偏压幅值为-150 V,占空比在10%~40%的范围内,占空比的变化并不能改变MgO薄膜的微观结构和表面形貌。     

为了三峡工程生命不息搏击不止──《三峡人》系列连载之四

流火的七月，中国葛洲坝集团中心医院脑外科病区，来了一位病情危急的患者，在医疗专家们为他治疗的过程中，引起了集团公司和企业公司领导的高度关注，不断派人向主治医师打探这位患者的样细病情。究竟何其人也，竟能引起几级领导的如此重视？他就是在三峡准备工程施工中独领风骚的电力部劳动模范──周才秀。别看他身材瘦小，然而就是他，带领着百余名机械化青年民兵，在茅坪溪防护工程泄水隧道施工中．5个月连着上了4个新台阶，月单向掘进由最初的50米提高到212米（自然月），日均进尺由不到2米提高到7米以上，一次单向循环由32小时缩短…     

TiO_2系压敏陶瓷施主掺杂研究

研究了Ta2O5和Nb2O5掺杂对TiO2系压敏陶瓷电性能的影响。采用电子陶瓷制备工艺,制备了两组TiO2系压敏陶瓷,借助热电子发射理论,分析了样品的I-V特性及介电频谱特性。结果发现,Ta2O5掺杂的样品具有最低的压敏电压(E10mA=5.03 V.mm–1)和最大的视在介电常数(εra=1.5×105)。     

沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响

采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的（100）、（110）和（111）3种结晶取向,在沉积气压为0.7～3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由（100）转变为（110）,最后变为（111）。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380～900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。     

Plasma-Neutral Gas Structure in a Magnesium Cathodic Arc Operating at Oxygen Gas with Experimental Comparison

The plasma-neutral gas structure generated in a magnesium cathodic arc operated with oxygen gas at a constant current of 50 A has been investigated by employing a simplified one-dimensional fluid model.The model includes elastic collisions and charge-exchange reactions between metallic particles and gas molecules,and also generation and recombination of gaseous ions by electron impact.The distribution profiles of density and velocity of species along the axial direction were obtained at diferent background gas pressures(in the range of 0.7~3.0 Pa)by this model.A comparison with the experiments was made.At lower gas pressures,the depositing particles were mainly the metallic ions with a larger kinetic energy.As the gas pressure increased,the magnesium atoms with smaller kinetic energy acted as the dominant depositing species.Determined by the minimization of the system’s total energy,MgO(100)or/and MgO(110)orientation appeared easily in the MgO films at lower gas pressures,and at higher gas pressures,the film preferred orientation was MgO(111).