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张治仓 《电子工业专用设备》1981,(2)
<正> 本文介绍了HL2HLHLHL2HLH胰系干涉滤光片的镀制工艺。讨论了影响较大的几个因素,对镀制过程中出现的一些现象进行了初步分析,总结出最佳工艺条件。一、前言随着光学技术在半导体工艺设备中的应用日益广泛,滤光片亦成为半导体设备必不可少的光学元件。目前在光学薄膜技术中,滤光片的膜系设计和镀制是比较困难的。其中最常见的一种是按法布里——珀罗干涉仪原理工作的 相似文献
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彬长矿区煤层气资源丰富,具备煤层气地面开采的良好条件。为降低矿井瓦斯含量,提高矿井安全系数,开发煤层气资源,在彬长矿区大佛寺井田实施一组煤层气多分支水平井,开发、利用4号煤层的煤层气。该井水平段采用地质导向及充气欠平衡技术,实现了井眼轨迹的精确控制和煤储层保护,提高了单井产气量。 相似文献
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