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基于Synopsys公司3D TCAD器件模拟,该文通过改变3种工艺参数,研究65 nm体硅CMOS工艺下PMOS晶体管工艺参数变化对静态随机存储器(Static Random Access Memory, SRAM)存储单元翻转恢复效应的影响。研究结果表明:降低PMOS晶体管的P+深阱掺杂浓度、N阱掺杂浓度或调阈掺杂浓度,有助于减小翻转恢复所需的线性能量传输值(Linear Energy Transfer, LET);通过降低PMOS晶体管的P+深阱掺杂浓度和N阱掺杂浓度,使翻转恢复时间变长。该文研究结论有助于优化SRAM存储单元抗单粒子效应(Single-Event Effect, SEE)设计,并且可以指导体硅CMOS工艺下抗辐射集成电路的研究。 相似文献
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针对我国燃煤型烟叶烘烤设备能耗高、污染排放大、烤后烟叶欠柔软等问题,设计了一种可调节气流方向的闭式循环热泵烤房,并进行了烘烤试验。结果表明:热泵烤房升温准,控温稳,能够满足烤烟密集烘烤对温湿度的要求。不同烘烤阶段的冷凝水流出速率有较大差别,随着烘烤的进行冷凝水流出速率逐渐下降。热泵烤房烤后烟叶宽度收缩率和柔软性显著高于燃煤密集烤房,烟叶化学成分含量更适宜,化学成分比例更协调,烤后烟叶感官质量综合得分高于燃煤烤房,烘烤用工及能耗成本每kg干烟减少1.88元。该技术可为提高烟叶烘烤质量提供支持。 相似文献
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