甲基丙烯酰胺丙基二甲基胺的合成与应用述评

介绍了甲基丙烯酰胺丙基二甲基胺（DMAPMA）的合成工艺路线,重点阐述了该产品在水处理行业、日化行业、造纸加工业、医药行业等中的实际应用.     

萘啶酸的合成与表征

以2-氨基-6-甲基吡啶、原甲酸三乙酯和乙酰乙酸乙酯为原料,通过缩合反应、热成环反应、乙基化反应和氧化反应,制备得到萘啶酸,并对其进行了红外和核磁表征.对其进行了工艺改进,实现乙基化反应和氧化反应连续操作,提高总收率.     

低阻PTC陶瓷材料的研究

本研究采用传统的固相反应工艺，以国产工业级化工原料，掺杂施主元素Nb、La、Y、Tn以及显微结构调节剂BN和ASTL相，通过实验探讨了低阻PTC陶瓷材料的配方组成、工艺制度对材料电性能的影响，成功制备出性能良好的低阻PTC陶瓷材料。     

HEDP及其取代物对碳酸钙阻垢机理的研究

采用分子动力学方法,模拟计算了阻垢剂HEDP及其取代物与方解石(104,(102),(202),(113)面的相互作用,计算并分析了阻垢剂与方解石(104),(102),(202),(113)面作用的相互作用能,包括结合能,库仑能和范德华作用能.并且分析了方解石(104)晶面上的钙离子与阻垢剂中双键氧原子、整个(104)晶面与阻垢剂中所有氧原子之间和整个(104)晶面与整个阻垢剂分子之间的对关联函数,结果表明:阻垢剂分子中的氧原子与碳酸钙的Ca2+形成的离子键对吸附起到了主要作用,同时阻垢剂与晶面间存在较弱的范德华力相互作用,阻垢剂与各晶面的的结合能强弱顺序为(102)＞(202)≥(113)≈(104).苯环的大π键有利于阻垢效果的提高.     

多氨基多醚基亚甲基膦酸盐的合成工艺与阻垢性能关系研究

多氨基多醚基亚甲基磷酸盐（PAPEMP）是20世纪90年代由Calgon公司开发的一种新型阻垢剂，它是一种复杂的大分子有机膦酸，其结构为：     

实现开放式数控系统的重要组件-PMAC

本文介绍了开放式数控的有关概念，及其重要组件——PMAC，并给出了IPC与PMAC集成的数控系统实例。     

316L不锈钢凝汽管在运河水质循环水中的应用

简述了运河徐州段的水质状况和316L不锈钢凝汽器管的物化性能,给出了一种以PBTCA、POCA、PESA、PAPEMP和T-225为主要成分的复合阻垢剂,用极限碳酸盐硬度法和动态模拟法试验,结果表明:在按补水计投药质量浓度为10 mg/L时系统可在k=3.5±0.5的浓缩倍数下安全运行;运河水对碳钢、HSn70-1B铜合金及316L不锈钢均具有较强的腐蚀作用,阻垢剂的加入将加剧金属的腐蚀;在系统中投加一定浓度的BTA-TTA-有机胺混合物可保证316L不锈钢的腐蚀率＜0.003 mm/a.     

聚环氧琥珀酸的阻垢缓蚀性能研究

聚环氧琥珀酸（PESA）是一种新型的无磷有机阻垢缓蚀剂。通过鼓泡法和旋转挂片失重法对其阻垢性能和缓蚀性能进行了评价。结果表明,PESA比常用药剂HEDP、HPMA的阻垢性能好,但比PBTCA性能稍差;PESA也有一定的缓蚀性能,可以和其他的药剂复配生成低磷或无磷的缓蚀剂。     

4-甲氧基-N-(2-N,′N′-二甲基氨基乙基)-1,8-萘酰亚胺烯丙基缩水甘油醚季铵盐的合成与光学性质

以4-B r-1,8-萘酐为起始原料,合成得到标题化合物,中间体及产物的结构采用质谱、核磁共振氢谱等测试技术进行了结构表征。对该荧光单体的紫外光谱、荧光光谱等性质进行了初步的研究。     

羧酸膦酸型化合物的阻垢缓蚀性能的量子化学研究

运用密度泛函(DFT)理论,在B3LYP／6—31G*水平下,系统研究了2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸(PBTCA)、1,2,2-三膦酸基丁烷-4-羧酸(TPBCA)、3,3-二膦酸基戊烷-1,5-二羧酸(DPPDCA)这3种羧酸膦酸型阻垢缓蚀剂的分子结构与阻垢缓蚀性能之间的构效关系。结果表明,3种膦酸分子中的羧基和膦酸基中氧原子的负电荷较多,氧原子与垢晶体中的钙离子产生静电,这些氧原子对间距与方解石晶体生长面上的钙离子对间距匹配,产生晶格畸变,阻止垢体生长。计算得到3种分子的缓蚀能力为PBTCA>DPPDCA>TPBCA,并且得到羧基中的O原子、膦酸基中的O原子对缓蚀能力贡献较大。