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光刻是制造大规模集成电路的主要方法。由于快速计算机和多功能处理器不断发展,并提出很多新的要求,促使半导体集成线路制造商力求增加单片上的元件密度。元件密度受最小光刻尺寸限制。虽然光刻工艺水平已能刻出准波长特征尺寸的集成线路的线宽,但是,连续发展几代的单片集成线路要求光源波长从436nm到365nm。用248nm波长光源(KrF准分子激光器).光刻的特征尺寸为0.25μm。期望能生产0.18μm特征尺寸的集成线路。为了生 相似文献
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《轻工标准与质量》2003,(2):33-33
2002年国家监督抽查了8412家企业的224类9447种产品,其中按季度组织实施的国家监督抽查共抽查了222类产品,平均抽样合格率为78.4%;另外,组织了热轧带肋钢筋和桶装饮用水两类产品的国家监督专项抽查。从全年抽查情况看,全年大型企业的抽样合格率稳定在90.0%左右,高于中型企业5个百分点左右,高于小型企业20个百分点左右;国有企业的产品抽样合格率最高,为89.0%,分别比三资企业和个体私营企业高出2.7个和21.6个百分点;全年生产和流通领域的抽样合格率相差5.2个百分点,生产领域的抽样合格率为79.5%,流通领域的抽样合格率为74.3%。2002年产品质量… 相似文献