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本文采用脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶硅试样表面上沉积制备了TiN/AlN多层硬质薄膜;研究了激光能量、靶衬距离和基体温度等工艺参数对薄膜性能的影响。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和显微硬度仪方法研究了薄膜的性能。结果表明:薄膜由TiN和立方AlN细晶和无定型的非晶TiN、AlN组成,薄膜的调制周期尺寸均在λ=(50-200)nm范围内,多层结构界面清晰;当多层薄膜调制周期在100nm以下时,薄膜的显微硬度明显高于TiN和AlN的混合硬度值。 相似文献
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本文采用化学镀在块状石墨表面镀Co,然后用真空离子镀沉积Pt制备Pt/Co石墨电极。通过扫描电子显微镜(SEM)对改性后的石墨电极试样微观组织进行观察;用X射线荧光光谱分析(XRF)确定石墨电极表面成分;用循环伏安法研究了石墨电极的电催化性能,并探讨了峰值电流与化学镀Co的时间、甲醇浓度等的关系。结果表明,在真空离子镀Pt工艺参数不变的情况下,镀Co时间在120s范围内,电极的甲醇电催化性随着化学镀时间延长和甲醇浓度增大而增强。 相似文献
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