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郭喜  李忠贺  刘佳星  杨刚 《激光与红外》2016,46(9):1156-1159
介绍了光敏聚酰亚胺的特性及应用情况,将其引入到硫化镉紫外器件制作中,通过实验研究开发并掌握一种正性光敏聚酰亚胺的光刻工艺,亚胺化后将其作为硫化镉器件的表面钝化层,经过实验验证其粘附牢固度和光电性能满足使用要求。同时该光敏聚酰亚胺的应用能够简化近40%的制作工艺,提高了硫化镉紫外器件的生产效率和成品率。  相似文献
3.
介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术,采用图形反转胶和正型光刻胶,选择合适的光刻工艺形成了光刻胶倒梯形的剖面结构,可以成功剥离与胶层厚度相同的膜层,厚度可达13μm。同时对一些技术机理和关键工艺条件进行了讨论。  相似文献
4.
郭喜 《激光与红外》2008,38(8):789-791
介绍了增黏剂(HMDS)的物化性质及其在光刻工艺中的作用,并且通过实验研究将增黏剂应用于锑化铟材料的光刻工艺,改善了锑化铟的表面状态,增强了锑化铟衬底与光刻胶的黏附性,进而在湿法腐蚀等后续工艺中提高了光刻胶的抗腐蚀性.  相似文献
5.
邢伟荣  刘铭  郭喜  周朋  周立庆 《红外》2017,38(12):17-20
InAs/GaSb II类超晶格由于具有独特的能带结构和良好的材料性能被认为是第三代红外探测器的首选,近年来被广泛研究,并取得快速发展。分子束外延能够精确控制材料界面与周期厚度,是超晶格材料生长的主流手段。利用分子束外延技术在GaSb衬底上分别生长了中波、长波超晶格材料,并对所生长的超晶格材料的性能进行了全面表征,最后用制备的面阵器件验证了该材料的性能。}  相似文献
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