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1.
介绍了光纤延迟线的工作原理.详细叙述了中功率Ku波段光纤延迟线的研制过程,其中包括:光发射模块、光接收模块、低噪声前置放大器、中功率线性放大器的研制及整个系统链路的设计链接调试等.最后给出了中功率Ku波段光纤延迟线的测试结果. 相似文献
2.
3.
SiC MESFET反向截止漏电流的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
给出了一种减小SiC MESFET栅漏反向截止漏电流的工艺方法,通过采用LPCVD淀积厚SiO2和高温氧化工艺,使器件的性能得到一定的提升.从实验数据看出,器件在S波段工作时,器件的反向截止漏电流大幅度下降,且分散性得到改善,其功率附加效率和功率增益也分别提高了10%和1.5 dB.该方法充分发挥了SiC材料能形成自身氧化层的优势,结合Si工艺的特点,减小了氧化层的缺陷,并在一定程度上减小了器件的寄生电容. 相似文献
5.
6.
韩玉杰 《固体电子学研究与进展》1989,(4)
<正> InP and its alloys are of increasing interest due to their usefulness in microwave and optoelectronic devices. For the development of an InP-based technology an intimate understanding of the material properties is required. These properties are the nature of defects which give rise to electrically active states in the forbidden gap. 相似文献
7.
本文重点介绍电荷耦合器件(CCD)的发展状况和最近出现的一些新器件的结构,如:虚相CCD摄象器;电荷引发器件摄象器;帧-行间转移CCD摄象器及具有三维集成电路雏型的叠层式CCD摄象器. 相似文献
8.
本文介绍我们设计的一种二相埋沟离子注入势垒、行间转移型的150×150元CCD面阵摄象器件,并将这种器件与已研制成的三相三层多晶硅帧转移型面阵器件从原理、结构、性能、工艺等方面作了比较;该器件的版图结构,预计在转移效率、工作频率、摄象清晰度等性能有较大的改进,但在工艺上要求有高精度的离子注入、高精度的大面积光刻、低压CVD生长多晶硅和氮化硅等工艺技术;最后给出了器件的驱动时钟波形。 相似文献
9.
本文介绍了一种可用于宽带GaAs FET放大器设计的计算机辅助设计方法。给出了两种宽带GaAsFET放大器的设计与实测结果。4-8GHz放大器,功率增益G_p=33±1.5dB,带内噪声系数F_n≤3.7dB,8-12GHz放大器,G_p=30±1.5dB,F_n≤6dB。 相似文献
10.