金刚石薄膜制备和评价

采用平直钨丝作热解源,并借助钨丝支架的弹性恢复力,较好地解决了热丝热解化学气相沉积法(HFCVD)合成金刚石过程中热解丝的变形问题.样品独立加热,基片温度、钨丝温度、钨丝与样品基片距离均可独立调节.装置改进后,在Si(100)上合成了面积大约45mm×25mm的比较均匀的金刚石膜.用扫描电子显微镜(SEM)、Raman光谱和X射线衍射仪对制备的金刚石膜进行了分析.     

用攀枝花钛矿和云南钛矿冶炼钛渣工业试验研究

通过磁性测量和X-射线衍射研究了Gd2(Co，Al)17化合物的结构和磁晶各向异性。当x≤4时，样品具有菱方Th2znl7型结构，x=5时，具有六方CaCu5型结构。随着Al浓度增加，晶格常数和单胞体积单调增大，而居里温度和自发磁化强度近似线性地减小；在x≥l时，观察到Co亚点阵的磁晶各向异性变号，室温易磁化方向由易面转变为易轴，且易轴各向异性场和各向异性常数随Al原子浓度增加出现极大值；基于补偿温度(65K)下自由粉末颗粒的磁化曲线，导出了亚点阵间的分子场系数和Gd-co交换耦合常数，结果表明，Al原子对Gd-Co交换耦合作用的影响较小。根据Al原子在Co亚点阵4种晶位的择优占位，分析了磁晶各向异性的演变。     

类金刚石膜的制备及其影响因素

概述了近年来制类金刚石膜的新技术如双射频辉光放电（RF－RF）法，射频－直流辉光放电（RF－DC）法和微波－射频（MW－RF）法等，并且对影响类金刚石膜制备及性能的因素如基体材料，制备类金刚石膜时在膜中添加元素，类金刚石膜与基材之间的中间层等进行了较全面的分析。     

MORPHOLOGY OF UPPER BAINITE IN A 55SiMnMo STEEL

本文通过光学显微镜、X射线衍射、电子显微镜(透射和扫描电镜)、紧凑拉伸等试验方法研究了55SiMnMo钢在正火状态下的上贝氏体形态,回火转变以及对其机械性能的影响。 该钢经900℃,0.5h奥氏体化后空冷所出现的上贝氏体形态由铁素体和30—35％富碳奥氏体片层相间组成。未发现有碳化物存在。 这种形态的上贝氏体会发生回火转变,析出碳化物的回火转变温度约为400℃,此时金相组织变为由铁素体、碳化物和3—5％奥氏体组成,作者暂称这种组织为回火贝氏体。在发生回火转变时,裂纹扩展速率(da/dN)随回火温度增加而增加,在400℃时达最大值;断口的扫描电子金相从准解理型过渡到解理型。     

真空蒸镀聚乙烯醇薄膜

采用真空蒸发沉积(蒸镀)聚乙烯醇薄膜,通过SEM和光学显微镜观察聚乙烯醇薄膜呈现典型的岛状形式并均匀分布于衬底表面,且以梯田状台阶式长大.衬底温度是影响PVA薄膜沉积速度的主要因素.红外光谱分析表明其蒸镀薄膜的主要化学结构特点是羰基代替了部分羟基.     

改性还原染料分子自组装性的研究

利用偏光显微镜、摩尔电导率和紫外-可见光光谱研究了改性还原染料如还原蓝RSN、还原猩红GG和还原深蓝BO的自组装性能,考察了浓度、温度及染料混合对其分子自组装性能的影响,分析磺化还原染料分子自组装聚集体的类型及其形成机理,结果表明分子依靠芳环间π-π共轭作用、磺酸基和溶剂水之间氢键作用力,自组装为有序结构的聚集体.磺化还原蓝RSN、磺化还原深蓝BO水溶液分子自组装为H聚集体,磺化还原猩红GG形成J聚集体.分子结构和引入亲水基影响其自组装方式和类型,一定浓度下分子自组装形成溶致液晶相,正交偏振光下,织构呈丝状、条状和粒状分布,磺化还原染料混合组装的均匀性与其浓度直接相关.     

1Cr18Ni9Ti不锈钢摩擦过程中的扩散与相变

对 1 Cr1 8Ni9Ti奥氏体不锈钢摩擦过程中的组织与成分变化进行了研究。结果表明 :1 Cr1 8Ni9Ti不锈钢经摩擦之后碳元素和其它合金元素在表面发生了明显的富集与扩散。但(马氏体 )相变只有在转速和压力比较低、摩擦时间较长、磨损速率较小各合金元素充分扩散的条件下才会发生。晶粒细化的程度受摩擦条件变化的影响     

HFCVD法合成金刚石的初期生长过程

用XL30FEG扫描电镜对热丝化学气相沉积 (HFCVD)法合成的金刚石颗粒的初期生长过程进行了研究。结果表明 ,金刚石在 p -Si(10 0 )基片上的初始形核密度很高 ,可达 10 10 /cm2 ;在随后的颗粒长大过程中 ,颗粒快速长大 ,颗粒密度急剧减少 ;颗粒的长大速率随其尺寸的增大而减小 ,最后趋于一稳定值     

溶致液晶偏振薄膜的研究

对N, N'-二氢化蒽醌吖嗪(还原蓝RSN)和N, N'-二苯并咪唑-1,4:5,8-萘酰亚胺(还原猩红GG)改性处理引入磺酸基,使其成为双亲性化合物,红外光谱结果表明磺酸基改变了分子的极性.双亲性染料分子在极性溶剂中溶解、浓缩、自组装成有序聚集体,在正交偏振光下,织构呈带状和棒状.将溶液用线棒涂布器在玻璃衬底上展开,同时剪切诱导分子取向分布,溶剂自然蒸发后形成0.5～0.7μm厚固态偏振薄膜.溶致液晶的粘度显著影响涂布薄膜的表面平整度和取向度,在可见光部分波段,薄膜具有良好的光学偏振效率,最佳偏振效率达到95%以上,实用前景看好.     

CVD金刚石厚膜刀具的研究进展与应用现状

金刚石厚膜片是采用化学气相沉积的方法制备出来的一种全晶质多晶纯金刚石材料,其物理性能和天然金刚石非常接近,而化学性质则完全相同。本文对CVD金刚石厚膜刀具的研究进展、制备方法、性能特点、切削试验结果及应用前景进行了简要的综述。