TREOR多晶X射线衍射图指标化程序的适用性

多晶Ｘ射线衍射图指标化的ＴＲＥＯＲ程序已被普遍采用，特别是在硅酸盐矿物等材料的晶体结构研究工作中应用很多。然而，实际上它存在着一定的缺陷，有可能得出错误的结果。本文对这一程序作了详细的检验，发现即使在理想条件下它都不适用于低对称晶系的指标化。在对程序作改进以后，该程序可适用于高对称晶系多晶衍射的指标化     

掺Li的SrB4O7的晶体结构和微结构的X射线粉末衍射研究

掺Ｌｉ对ＳｒＢ４Ｏ７的性能有一定的影响，本工作用Ｘ射线粉末衍射结构分析方法研究了掺Ｌｉ的ＳｒＢ４Ｏ７的晶体结构和微结构。空间群为Ｐｍｎ２１，晶胞参数为ａ＝１０．７４１（５）Ａ，ｂ＝４．２４５（１）Ａ，ｃ＝４．４３７（１）Ａ；参杂的ＳｒＢ４Ｏ＾晶胞参数较纯ＳｒＢ４Ｏ７的略有增大；阐述了产生这种变化的原因，在该晶体结构中，Ｌｉ进入ＳｒＢ４Ｏ７晶格空隙，成为间隙离子；这种结构有利于提高晶体的非线性光学系     

Bi4（SiO4）3晶体结构的X射线粉末衍射研究

在Ｘ射线衍射仪上收集了Ｂｉ_４（ＳｉＯ_４）_３的衍射数据；利用Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法对衍射数据进行指标化，Ｆ_（３０）＝１５８．９０；确定了Ｂｉ_４（ＳｉＯ_４）_３的晶体结构参数。结果发现：该结构中硅氧四面体是变形的孤立四面体，其中两个Ｏ－Ｓｉ－Ｏ键角为１０７．１３°，而另两个为１１４．２６°，详细报道了晶体结构，给出了晶体结构图；提出Ｂｉ离子最外层孤对的６ｓ２电子的存在是形成这种变形配位多面体的原因。     

材料研究中系列试样的单标样法 X 射线定量分析

本文提出了用一个标样进行系列试样 X 射线定量相分析的方法.它克服了一般 X 射线定量方法需要混合研磨和手续烦复的缺点以及无标样 X 射线定量方法存在病态方程不易解决的问题.该方法对常规 X 射线定量分析具有普遍的实用性.     

精确测定低对称晶系多昌材料点阵常数的X射线衍射方法

点阵常数是多晶材料的重要物理参数之一，陶瓷材料多数属非立方晶系化合物，研究低对称晶系点阵常数的测定方法和提高精度的途径对材料研究有重要的意义，本文提出了联立方程法、联立方程外推法、最小二乘法、最小二乘外推法、线对法、线对最小二乘法等六种测定方法和稳定性判 法、抛弃 平均法、最小二乘判法等三种数据处理方法及其适用条件、用本文的测定低对称晶系多晶材料点阵常数的方法可以得到较精确可靠的结果。     

超低膨胀陶瓷K_（2x）Ba_（1－x）Zr_4（PO_4）_6系统的X射线衍射

用高温Ｘ射线衍射方法对磷酸锆钡钾系统陶瓷材料的各向异性热膨胀作了研究．对七个组份试样的７７套高温Ｘ射线衍射图作了仔细的指标化和精密点阵常数测定．点阵常数随温度作非线性变化·对Ｋ_２ｘＢａ_１－ｘＺｒ_４（ＰＯ_４）_６的不同组份不同温度（３００～１３００Ｋ）的热膨胀系数。α_ａ、α_ｃ、　作了测定·该系统零膨胀陶瓷的组份为Ｋ_１．１６Ｂａ_０．４２Ｚｒ_４（ＰＯ_４）_６（ｘ＝０．５８）     

射频溅射ZnO压电薄膜择优取向度和离散因子的X射线测定法

性能优良的ZnO压电薄膜要求其多晶聚集体晶粒的c轴取向度高、离散角小、平均c轴偏差角小等。本文指出现行文献中这些参数测定方法和概念的不当之处,并提出ZnO压电薄膜若干重要的晶体结构评价参数(择优取向度f和比取向度f_εd)、离散角δ和离散度△,平均c轴偏差角γ及方位、晶粒度D、残余应力σ)的X射线测定方法。     

金红玻璃显色过程的研究

用X射线小角散射(SAXS)和透射电镜(TEM)研究了金红玻璃在显色过程中金微晶尺寸同热处理温度的关系。玻璃经600℃处理后,才开始显现颜色,这时金颗粒的尺寸为340(?),随着处理温度的提高,使金微晶的尺寸长大到550(?)。此后,即使将玻璃加热到900℃并保持较长的时间而全部熔塌,金微晶的尺寸也保持不变。金微晶的粒度分布随着温度的升高变得更为集中。玻璃一旦出现宝石红颜色后,继续进行热处理所引起的变化极微。     

多晶材料X射线衍射无标样定量方法

Ｘ射线物相定量的结果对多晶样品的结构和织构十分敏感．一般的Ｘ射线定量方法都需要在样品中添加标样并均匀混合研磨，因而容易引起很大的误差．近年来，无标样Ｘ射线定量方法得到了很大的发展．无标样定量方法克服了一般有标样Ｘ射线定量方法需要混合研磨和手续烦复的缺点．本文总结了三类ｘ射线衍射无标样定量方法：理论参数计算法、全谱图拟合法以及联立方程法．给出了提高各种无标样法定量精度和可靠性的方法．