氧化锆陶瓷沟道磨削表面质量研究

在氧化锆陶瓷沟道磨削中,为提高表面质量,并提高磨削效率、降低成本,采用单因素实验切入式磨削沟道,研究工艺参数对氧化锆陶瓷沟道表面质量的影响规律及材料的去除机理,并通过扫描电子显微镜,观察磨削后的表面形貌,在单因素实验基础上进行正交实验,对工艺参数进行优化.实验结果表明,表面粗糙度值Ra、R3y 、Rz随磨削深度、砂轮线速度、工件进给速度增大而减小;优化组合参数为磨削深度20 μm、砂轮线速度40 m/s、工件进给速度7 000 mm/min.为提高磨削效率、降低成本,可以适当提高磨削深度,适当的增加磨削热量有利于降低表面粗糙度;采用切入式方法磨削沟道,磨削内圈沟道时,尽量选用半径较大的金刚石砂轮;存在适当大小的峰谷高度差,波谷可以起到储油作用,有助于轴承润滑,减少轴承磨损.     

电感耦合等离子体—原子发射光谱法测定氧化锆中的硅

浓度浓度酸和硫酸铵溶样，选用电感耦合等离子体－原发发射光谱法测定氧化锆中的硅。在体干扰少，测定结果与化学法测定结果吻合，但操作简便。加料回收率在９８％￣１０６％之间，相对标准偏差为２．５￣９．１％．     

等离子体法分解锆石制取氧化锆工艺的研究

用直流等离子装置进行了分解锆石制取氧化锆的实验室研究和扩大试验．研究了等离子体工作气体和送料气体流量、加料速度和锆石粒度等对锆石分解率的影响．结果表明,在等离子孤功率为50kW,工作气体流量为2500L／h,送料气体流量200L／h,加料速度为10kg／h的条件下,锆石分解率可达99．0％．同时研究了NaOH溶液浓度和用量、浸出温度和时间对氧化锆纯度的影响,在用12．5mol／LNaOH溶液,温度为144℃,浸出1h的条件下,氧化锆的纯度可达90．0％以上．产品符合制取锆刚玉的技术要求．     

先驱体转化法制备莫来石毡/氧化锆多孔复合材料的显微结构与力学性能

以ZrO2前驱体混合液作为浸渍液,莫来石毡为前驱体附着骨架,采用真空压力浸渍工艺制备出莫来石毡/氧化锆多孔复合材料。研究了不同烧结温度(1 300、1 350、1 400和1 450℃)下该多孔复合材料的物相组成、体积密度、开口气孔率、压缩强度及显微结构。结果表明,烧结之后的多孔复合材料发生了四方相氧化锆到单斜相氧化锆的转变,相转变过程直接导致较低烧结温度(1 300和1 350℃)下制备的多孔复合材料体积密度低于烧结前的;而在较高烧结温度下,晶粒间更加紧密联结并生长出大晶粒,材料致密化程度和压缩强度提高,其中,1 450℃烧结制备的多孔复合材料体积密度为2.16g/cm3,开口气孔率约为46.5%,平均压缩强度达到31.6MPa。     

美国陶瓷行业分析,产品多用于精密科技工业

正美国对陶瓷的需求量将以每年7%的速度增长。其中,电子陶瓷元件仍为市场主流。2013年到2015年内,氧化铝、氧化钛、氧化锆、碳化矽、氮化矽等涂层、复合制品的生产情况,都会应用在电子器件、工业机械、化工、环境污染防治等领域。而为了提高陶瓷后加工的效率,朝着节约能源、减少环境污染、提高效率的方向发展,微波烧结、连续烧结或快速烧结等新技术及装备也应运而生。从2000年开始,美国先进陶瓷协会与美国国家能源部更联合资助了为期20年的美国先进陶瓷发展计划,这个计     

等离子喷涂承烧板的生产工艺研究

本文介绍了一种用于镍电极片式叠层陶瓷电容器(MLCC)承烧的等离子喷涂承烧板,并详细介绍了该产品生产的工艺过程,以及阐述了这种等离子喷涂承烧板性能、应用及市场化情况。     

喷墨打印头陶瓷喷孔的皮秒激光加工研究

喷墨打印头的喷孔直径一般为几十微米,材料一般是有机薄膜、不锈钢薄片等。针对有机膜等作为喷嘴板材料的缺陷,采用氧化锆陶瓷代替,以提高耐磨能力和耐腐蚀性。采用皮秒激光打孔方法,可在多种材料上加工出直径几十微米的小孔,包括聚酰亚胺（厚度50μm）、氧化锆陶瓷（厚度120μm）和铜片（厚度70μm）。通过控制不同的参数变化,可制备出孔径约20μm、孔间距为140μm的喷孔阵列。对比不同参数下喷孔尺寸和微观形貌发现,较高功率密度、较低单点停留时间有助于得到圆孔,减少重铸层。     

氧化锆保护层对Low-E镀膜玻璃的性能影响

通过镀膜工艺改进,采用磁控溅射方法制备了以氧化锆为保护层的镀膜玻璃,并测试了产品性能和颜色稳定性、膜层耐磨性、耐酸碱性和耐氧化性能。结果表明,含有氧化锆保护层的Low-E镀膜玻璃的性能和颜色稳定性更好,也具有更强的耐磨性、耐酸碱性,产品在湿热环境下和高温钢化时均表现出了优异的耐氧化性能,为后续保存、运输以及加工提供了更高的可行性。     

溶胶pH值对氢化锆表面阻氢膜层性能的影响

目的采用溶胶-凝胶法在氢化锆表面制备氧化锆阻氢膜层,探究溶胶p H值对阻氢膜层性能的影响。方法以正丙醇锆为前驱体,通过滴加盐酸分别得到p H值为1、3、5、7、9的溶胶。利用扫描电子显微镜(SEM)、激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD),分析了氧化锆膜层的截面形貌、表面形貌和物相组成,并利用真空脱氢实验测试了膜层的阻氢性能。结果溶胶p H值影响溶胶的涂覆性能,致使氢化锆基体表面所得膜层的连续性、均匀性及厚度存在差异。溶胶pH值的变化对形成膜层的物相组成没有显著影响,所得膜层由单斜相氧化锆(m-ZrO2)和四方相氧化锆(t-ZrO_2)组成。当p H值在1～9范围内时,随着溶胶pH的增加,膜层中t-ZrO_2的体积分数和PRF值均呈现出先升高后降低的变化趋势,t-ZrO_2的体积分数介于13.16%～46.84%之间,膜层的PRF值介于10.13～19.46之间。结论溶胶pH值影响溶胶的涂覆性能,进而影响膜层质量、膜层中各物相的含量以及膜层的阻氢效果。当溶胶p H值为3时,溶胶涂覆性能良好,所得氧化锆膜层均匀、连续,膜层较厚且致密,膜层中t-ZrO_2的体积分数最大,为46.84%,同时膜层的氢渗透降低因子(PRF值,Permeation Reduction Factor)达到最大值19.46。