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本文对计算机外部设备中广泛使用的双轨气膜磁头轴承的稳定性进行了研究.考虑到现代磁头-磁盘气膜间隙已进入亚微米级,甚至达0.1μm,因此利用磁盘盘面上故意做成的凸台对磁头进行激励,计算了气膜磁头的非线性运动轨迹,并用激光多普勒振荡仪进行了测试.理论计算和试验数据吻合,证明计算方法和理论分析是正确可靠的.通过对三种磁头稳定性的比较,发现其中表面开槽的磁头稳定性最好,这对实际磁头的参数和结构设计具有实用价值.  相似文献
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