钕电解阳极过电位的测定

用慢扫描示波法测定了钕电解的阳极过电位 .考察了温度、阳极电流密度、Nd2 O3添加量、电解质组成等因素对阳极过电位的影响 ,探讨了降低阳极过电位的可能途径 .结果表明 ,阳极过电位随阳极电流密度的增加而增大 ,随温度的升高而减小 ,一定范围内 ,阳极过电位与阳极电流密度的对数呈线性关系 ,满足塔菲尔方程 ;电解质中LiF和Nd2 O3浓度增加 ,阳极过电位降低 ;适当控制阳极电流密度、升高温度、增加电解质中LiF和Nd2 O3的浓度并尽可能减小极间距 ,均有利于降低阳极过电位     

提高金厂沟梁金矿炭浆厂解吸率的生产实践

通过对解吸电解操作条件的调整和控制，使解吸电解回收率由原来的75．23％提高到91．18％，贫炭含金从原来的518．3g／t降到168．8g／t，缓解了设备处理能力和生产任务之间的矛盾．     

Bi2O3—PbO二元系相图

本文用差热分析（ＤＴＡ）和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ０技术研究了Ｂｉ２Ｏ３－ＰｂＯ二元相平衡；在该二元系中存在一个结构为体心立方，点阵常数ａ＝０．４３５０ｎｍ的新化合物，化合物的组成来２Ｂｉ２Ｏ３，３ＰｂＯ，该化合物是６Ｂｉ２Ｏ３－ＰｂＯ和ａ固溶体在５９０℃包晶反庆形成的，温度为６１５℃，组成为Ｂｉ２Ｏ３：ＰｂＯ＝３：７发生共晶反应Ｌ＝６Ｂｉ２ｏ３．ＰＢＯ＋α６１５℃时Ｂｉ２Ｏ３在α相中的最大固溶度大约是     

Al2O3-CaO-CaF2-MgO渣系性能的研究

对Al2O3-CaO-CaF2-MgO渣系的初晶温度、电导率以及物相组成进行了研究.研究结果表明:在该渣系中,随着MgO的含量的增加,渣系的初晶温度先降后增,当MgO的加入量为7％时值最低,初晶温度为1 497℃.该渣系中,随着MgO加入量的增加和温度的升高,渣系的电导率也随着增大,其中主要物相组成为MgAl2O4、C...     

电化学沉淀法净化含氰废水研究

含氰废水绿色、低成本处理制约着黄金氰化企业的可持续发展.以锌板为牺牲阳极,采用电化学沉淀法处理含氰废水,考察了电流密度、pH和初始总氰化合物浓度对氰化物去除效果的影响.结合循环伏安法、pHpzc、X射线衍射法、扫描电镜/能谱法和X射线光电子能谱法表征结果阐释氰化物去除机理.试验结果表明:在最佳条件下,工业含氰废水中总氰...     

氟化物熔盐中快速电脱氧制备金属钒及其机理

以偏钒酸铵为原料,采用"煤气还原+原位烧结"工艺制备高活性V_2O_3阴极片,在氟化物体系熔盐中实现了快速电脱氧制备金属钒,并通过测定循环伏安曲线结合恒电位电解实验,研究了电解过程的反应机理。结果表明:V_2O_3在氟化物熔盐中可实现快速电脱氧,电解4 h后所得金属钒的氧含量降至0.218%(质量分数,下同);V_2O_3阴极电脱氧产生的O~(2-)在脱氧反应区可原位生成铝氧氟络合离子并进一步产生金属铝,从而引发阴极的铝热还原反应,导致V_2O_3熔盐电脱氧过程同时存在直接电还原反应和铝热还原反应,其中后者起着关键的加速作用;在熔盐中添加适量Al_2O_3可强化V_2O_3电脱氧过程,在其他条件不变的情况下电脱氧时间可缩短至3 h。     

磁控溅射工艺参数对TiAlN薄膜结构和性能影响规律研究

采用XRD、SEM、纳米压痕仪、纳米划痕仪等分析了磁控溅射工艺参数对TiAlN薄膜物相、微观组织、力学性能及结合力的影响规律。结果表明,所有样品生成相均为面心立方的TiAlN,且在(111)晶面择优生长,薄膜表面形成三棱锥状密排晶粒。选定硬度与结合力两个指标对TiAlN薄膜进行评价,通过正交实验发现,硬度与结合力的最优工艺参数均为基底偏压-100 V,工作气压0.3 Pa,溅射电流8 A,氮流量40 sccm。     

超细碳化钨粉末制备工艺研究进展

碳化钨是一种重要的硬质合金材料,在国民经济、社会生活及国防建设等领域均有广泛应用。近年来碳化钨制备工艺取得了很大的进展。综述了固相法、液相法和气相法三大类碳化钨粉末制备工艺并对其优点及存在的问题进行分析,展望了碳化钨制备工艺的发展趋势。     

热浸镀生产控制系统的研制

采用IBMPC机与C8051F000型单片机组成小型集散式计算机控制系统,对现有热镀钢丝生产设备进行自动化改造.在工业生产中采取"两点法"在线辨识,选择PID控制器进行控制,控制器参数由控制系统的响应特性整定.在此基础上进行了控制系统的软件设计及管理系统的开发设计.     

钢丝热镀Zn-Al-Mg合金层及其电化学腐蚀行为

为了改进Zn-Al-Mg合金镀层的表观质量,利用热镀方法制备了一种光亮平滑、与基体结合良好的Zn-Al-Mg(Zn20%All%Mg)合金镀层.采用铜加速乙酸盐雾(CASS)试验、弱极化曲线测试技术和电化学阻抗谱测试技术对其耐蚀性进行了研究.结果表明:Zn-Al-Mg舍金镀层的耐蚀性远优于Zn镀层,腐蚀速度为Zn镀层的1/7～3/7;Zn-Al-Mg合金镀层的腐蚀过程可分为腐蚀初期、腐蚀抑制期和基体腐蚀期3个阶段,阶段平均腐蚀电流密度分别为17.34,1.29,6.38μA/cm2.镀层的整个腐蚀过程主要受电化学反应控制.