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磁控溅射Zr-Ti薄膜的组织结构与血液相容性 总被引:1,自引:0,他引:1
通过直流平衡磁控溅射法在NiTiSMA表面生成Zr-Ti膜,用SEM、XRD和XPS分析证实制备的Zr-Ti膜呈现晶带T型结构,组织保持了细小致密的纤维状特征,与基底结合良好,并且出现了少量生物惰性ZrO2和TiO2陶瓷相。通过测定溶血率研究血小板黏附行为,评估血液相容性。结果表明,与NiTi基底相比,Zr-Ti膜的溶血率更低,表面黏附的血小板数量减少,能够改善NiTiSMA基底的血液相容性。最后,对磁控溅射沉积Zr-Ti膜的成膜机理进行了探讨。 相似文献
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A modified advanced oxidation process(AOP) utilizing a UV/electrochemically-generated peroxide system was used to fabricate titania films on chemically polished NiTi shape memory alloy(SMA). The microstructure and biomedical properties of the film were characterized by scanning electron microscopy(SEM), X-ray photoelectron spectroscopy(XPS), inductively-coupled plasma mass spectrometry(ICPMS), hemolysis analysis, and blood platelet adhesion test. It is found that the modified AOP has a high processing effectiveness and can result in the formation of a dense titania film with a Ni-free zone near its top surface. In comparison, Ni can still be detected on the outer NiTi surface by the conventional AOP using the UV/H2O2 system. The depth profiles of O, Ni, Ti show that the film possesses a smooth graded interface structure next to the NiTi substrate and this structure enhances the mechanical stability of titania film. The titania film can dramatically reduce toxic Ni ion release and also improve the hemolysis resistance and thromboresistance of biomedical NiTi SMA. 相似文献
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钛合金微弧氧化陶瓷膜微观特性的分析 总被引:5,自引:0,他引:5
微弧氧化膜存在微米量级宏孔,这些宏孔对氧化膜特征的研究非常重要.研究了微弧氧化中电流密度对微弧氧化膜的生长速率、结构形貌及相组成的影响,并对氧化膜进行了离子束抛光处理,分析了氧化膜和微孔的组织结构.研究表明:电源频率固定为1 500 Hz/5 μs和氧化膜厚为10 μm时,随着氧化电流密度的增大,氧化膜的生成速度和孔径都随之增大,但同一膜厚的氧化层组成成分金红石型TiO2和锐钛矿型TiO2的相对含量无明显变化;离子束抛光后的氧化膜膜层外疏内密,放电通道内表面更是淀积了电解液溶质、氧化膜颗粒及基材等多种物质的纳米微颗粒. 相似文献
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本文研究不同金属薄膜结构形成的超薄CoSi2膜的高温稳定性.采用离子束溅射和反应磁控溅射技术制备Co/Si、TiN/Co/Si、Co/Ti/Si、TiN/Co/Ti/Si不同结构,在高纯氮气下进行快速热退火(RTA),形成CoSi2薄膜.应用四探针薄层电阻测试、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)进行测试.实验结果表明:TiN覆盖层和Co/Ti/Si三元固相反应都是有利于形成具有良好高温稳定特性的CoSi2薄膜的有效方法,有望应用于深亚微米接触和互连技术中. 相似文献
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等离子体浸没离子注入(PIII)为解决束线离了注入所难以解决的圆筒状零件内表面注入处理问题提供了新要可能途径,但在应用中却受到注入能量和注入剂量偏代的限制,本文针对这一问题了偏转电场法用以提高内表面注入的能量和注入剂量,实验结果表明,采用这一方法可以有效地改善圆筒状零件内表面注入的注入情况,注论述工提高了25%~100%,注入剂量提高了73%~113%,注入脉冲宽度的延有利于注入离子向部深入,利于 相似文献
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Silicon-on-insulator (SOI) materials have a number of inherent advantages over bulk silicon substrates owing to their high speed, low power complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) integrated circuits, such as immunity to radiation hardness, high speed, and high tem-perature tolerance [1]. Separation by implantation of oxygen (SIMOX), bonding and etch back (BESOI) and Smart-Cut are the leading technologies for SOI material fabrication. Transitional metal impurities such as Cu, F… 相似文献
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选择具有不同溅射产额的靶材料(Cu,Cr,Mo,Ti,V和C),研究了其高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)放电靶电流波形随靶电压的演化行为.发现所有材料都满足5个阶段顺序放电特征,但是不同溅射产额的材料的相同放电阶段所需要的靶电压呈现先增加后下降的趋势,根据放电难易的不同分别表现出一定阶段的缺失.对其靶电流平均值、峰值和平台值的统计显示,溅射产额高的靶材料自溅射容易,平台稳定,对靶电流的贡献主要为平台值(金属放电),比较适用于HPPMS方法沉积薄膜;而溅射产额低的靶材料气体放电明显,靶电流主要由峰值(气体放电)贡献,不利于薄膜沉积. 相似文献