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1.
采用磁过滤阴极真空弧离子镀(FCVAD)技术在纯锆表面制备了厚度约为4μm的Cr金属层,对比研究了它们在不同温度水蒸汽环境中的氧化行为,并利用XRD、XPS、SEM及EDS分析了Cr涂层及氧化膜的物相组成、微观结构及成分分布。结果表明,在900、1000和1100℃水蒸汽环境中,镀Cr涂层大幅度降低了锆的氧化速率,其单位面积氧化增重仅为同一温度下锆基体的1/4、1/6和4/9。氧化初期,Cr涂层表面生成一层均匀致密的Cr_2O_3膜,当Cr层被消耗完后,Cr_2O_3/Zr界面上部分Cr_2O_3被Zr还原成金属Cr,锆基体氧化生成ZrO_2。镀Cr涂层样品的氧化激活能达293.17 kJ/mol。  相似文献   
2.
锆及锆合金是重要的核结构材料和有潜力的生物医用材料,但在实际应用中,腐蚀、磨损易造成其失效,而适当的表面改性是提高它们服役性能的有效手段。重点介绍了锆及锆合金微弧氧化(MAO)表面处理技术的研究现状,讨论微弧氧化过程中电压电流特征及微弧放电机理,总结电解液体系及电参数对锆微弧氧化膜生长及膜层性能的影响规律,最后指出目前存在的问题和后续的研究方向。锆微弧氧化膜硬度高,致密性好,能大幅度提升基材的抗磨损和抗腐蚀性能。因此,锆微弧氧化技术在核电及生物医学领域有着很好的应用前景。此外,电解液中铝、硅元素进入微弧氧化膜后可以稳定膜层中高温氧化锆相(t-ZrO2),避免膜层中应力集中和微裂纹的产生。用P和Ca元素修饰后的锆微弧氧化膜具有较好的生物活性、抗体液腐蚀和抗菌性能。  相似文献   
3.
金属表面液相等离子体电解渗技术包括等离子体电解渗碳、渗氮、渗硼等。它具有渗透效率高、工作电压低、处理工艺简单、成本低等优点。主要介绍了钢铁、钛等金属表面等离子体电解渗硼技术的最新进展,分析了它的放电过程和基本原理,研究了渗硼过程的光发射谱,并评估了等离子体放电区的电子温度、电子浓度特征参数。分析了渗硼层的生长过程和形成机理,探讨了金属基体成分、工作电压、处理温度和电解液的组成等关键参数,对渗硼层的显微组织和相成分的影响。最后简要探讨了等离子体电解渗硼技术目前存在的问题和后续的发展方向。  相似文献   
4.
连拱支墩挡墙土压力的分布   总被引:1,自引:0,他引:1  
杜建成  杜瑞成 《工程力学》2000,3(A03):474-478
结合实际工程,提出连拱支墩新型档墙,用离心模型试验与三维非线性有限元研究墙上的土压力分布。结果表明,土压力具有明显的空间分布效应,即在拱圈平面上呈中间大两头小的分布形式,沿墙身高度方向为重心偏上的抛力线分布,数值上大多小于主动土压力。  相似文献   
5.
6.
目的 研究锆合金微弧氧化膜的介电性能随温度的变化规律,了解?100~250℃范围内它们的介电频谱特性.方法 采用恒压模式的双极性微弧氧化脉冲电源,在硅酸盐电解液中对Zr-0.39Sn-0.32Nb合金进行微弧氧化处理,用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)及激光拉曼光谱仪(Raman),分析微弧氧化陶瓷膜的形貌和相组成.采用变温介电谱仪测量?100~250℃范围内不同厚度微弧氧化膜的介电常数、介电损耗以及电导率随环境温度变化的频谱图(0.01 Hz~1 MHz).结果 Zr-0.39Sn-0.32Nb合金表面制备出20~45μm厚的微弧氧化陶瓷膜,它们都由m-ZrO2单斜相和少量t-ZrO2四方相组成.微弧氧化膜的致密内层对其介电特性影响较大,多孔外层降低其绝缘性能.在?100~250℃范围内,微弧氧化膜的低频区介电常数、介电损耗、电导率均随着温度的增加而快速增加,而温度对它们在高频区的影响较小.同时,在0~100℃范围内,锆合金微弧氧化膜介电性能稳定.在50 Hz工频和20℃环境中,微弧氧化膜的导电率约为10?12 S/m.结论 环境温度对锆合金微弧氧化陶瓷膜介电特性有较大影响,特别在低频区变化显著.  相似文献   
7.
本文介绍了我国微波通信技术的发展历程,指出了微波通信技术面临的问题及广阔的发展前景。  相似文献   
8.
采用液相等离子体电解渗方法,在80%甘油水溶液中实现了304不锈钢表面快速渗碳。研究施加电压和放电时间对渗碳过程的影响,分析了渗碳层的显微组织,并比较了不同工艺条件下渗碳层显微硬度分布。结果表明:经过5 min的快速放电处理,渗碳层厚度接近100μm,硬度达到880 HV。在350 V和3 min渗透条件下渗碳层质量较好。  相似文献   
9.
文章提出了基于超平面的块数组分布策略.这是一种单向的数组分布方法,它以简单的方式有 效解决了不一致计算环境和不规则数组扫描情况下的数组分布问题.它可以作为对传统方法 的一个补充.更重要的是,此项工作为自动数据分布提供了一种思路.  相似文献   
10.
JAPS: an automatic parallelizing system based on JAVA   总被引:8,自引:0,他引:8  
JAPS is an automatic parallelizing system based on JAVA running on NOW. It implements the automatic process from dependence analysis to parallel execution. The current version of JAPS can exploit functional parallelism and the detection of data parallelism will be incorporated in the new version, which is underway. The framework and key techniques of JAPS are presented. Specific topics discussed are task partitioning, summary information collection, data dependence analysis, pre-scheduling and dynamic scheduling, etc.  相似文献   
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