D-S理论中证据损耗分析及改进方法

分析了传统D-S理论在证据组合过程中的误差、抗干扰能力弱以及与人类思维相悖的原因;认为主要是由于部分定义和规则的局限性引发了组合过程中的证据损耗;提出了一种扩展的定义和组合规则,发现并解决了完全兼容证据组合过程中的证据损耗,有效地化解了冲突;理论分析和实验结果支持了方法的合理性与可行性.     

磁控溅射沉积Cu-W膜的结构及性能研究

为得到最佳性能的磁控溅射Cu-W薄膜,采用磁控溅射技术在玻璃片上沉积Cu-W单层膜。采用电子探针测试薄膜中W含量,采用X射线衍射仪、扫描电镜、硬度仪、凹抗仪、分析膜层物相、形貌及耐磨性。研究了W含量对Cu-W薄膜显微结构和性能的影响。结果表明,在沉积过程中W对Cu-W薄膜的晶粒大小及沉积速率有重要影响:随W含量的增加,Cu-W薄膜的晶粒尺寸减少,薄膜的沉积速率随之减少,薄膜W含量对膜的硬度、耐磨性能也起着关键作用;当W含量在11.1%时,Cu-W薄膜具有最好的硬度和耐磨性。