真空波导磁场控制型ECR溅射法的实验研究

微波电子回旋共振（delectroncyclotronresonance．ECR）等离子体溅射法是能在低温下制备高质量薄膜的最新镀膜技术．在该技术中,微波输入窗口易受金属粒子污染,导致微波在窗口反射,从而影响装置的正常工作。本文初步探讨了在ECR溅射装置中．采用真空波导与共振腔连成一体,在连接处配置磁轭（纯铁）．通过改变共振腔与波导连接处的磁场分布,能有效的避免微波窗口污染的技术途径,并较细致的研究了该装置的放电特性。     

真空波导磁场控制型ECR溅射法的实验研究

微波电子回旋共振（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ，ＥＣＲ）等离子体溅射法是能在低温下制备高质量薄膜的最高镀膜技术。在该技术中，微波输入窗口易受金属粒子污染，导致微波在窗口反射，从而影响装置的正常工作。本文初步探讨了在ＥＣＲ溅射装置中，采用真空波导与共振腔连成一体，在连接处配置磁轭（纯铁），通过改变共振腔与波导连接处的磁场分布，能有效地避免微波窗口污染的技术途径，并较细致的     

采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究

将磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜,其膜的沉积速率比普通ＥＣＲ溅射中所得到的速率大得多,并且在Φ１２ｃｍ的膜区域内显示出良好的均匀性。