单纯形回归寻优法测算压延帘布覆胶厚度的方法

分析了影响同位素射线测量技术测算压延帘布覆胶厚度的各种因素,进行了经典理论模型Ｎ＝Ｎ０ｅ＾－λｍ,仿真样本模型ｙ＝ｆ（ｘ,ａ,ｂ,ｃ,ｄ）和仿真预报模型ｙｉ＝ｆ（ｘｉ,ａ,ｂ,ｃ,ｄ）曲线与实测值的比较,介绍了单纯形寻优选点方法。     

基于人工神经元网络(ANN)实现的轮胎硫化最优化过程控制

本文讨论在轮胎硫化过程中．基于ANN实现的无模型自适应调节控制。以在线自学习决定系统的ANN学习强度方式，来替代传统的PID调节控制，使硫化过程控制能够适应模型的非线性、时变性，系统的不确定因素，环境因素。     

射频磁控溅射法制备氧化铝涂层绝缘性能及吸氢特性

氧化铝具有优良的绝缘和阻氚性能,是ITER候选功能材料之一。本工作采用射频磁控溅射法在中国低活化马氏体（CLAM）钢基底上制备了氧化铝涂层。分别采用掠入射X射线衍射、Raman激光光谱和原子力显微镜对氧化铝涂层的结构和表面形貌进行了表征;测量了氧化铝涂层体电阻率;研究了氧化铝涂层样品的吸氢特性。结果表明：氧氩比为0.1和0.5下制备的氧化铝涂层为非晶结构,氧氩比为0.4下制备的涂层中出现了结晶程度较差的氧化铝δ相结构;氧氩比为0.1和0.4下制备的涂层粗糙度和粒径均小于氧氩比为0.5下制备的涂层;不同氧氩比下制备的氧化铝涂层体电阻率均超过2.7×10¹⁴Ω•cm,氧氩比为0.4下制备的涂层电阻率最高,达到2.1×10¹⁵Ω•cm;氧氩比为0.5下制备的涂层样品具有最低的吸氢量。氧氩比对涂层的电绝缘特性和吸氢特性有显著影响。     

溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响

采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1~1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌。结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32~4.81nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2~11.7nm之间;溅射气压为0.2Pa和0.3Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多。