缺陷光子晶格局限光现象的研究

利用成像法在自散焦LiNbO3:Fe晶体中诱导出了线形缺陷结构的(2+1)维光折变光子晶格,并发现该缺陷晶格对光波具有一定的局域作用。又对三角与四方点阵缺陷晶格的局域光能力作了对比,结果显示三角点阵缺陷晶格的局域光能力要更好一些。最后,根据光子带隙理论对晶格局限光的现象进行了初步的解释。这对光子晶体的进一步研究与应用有一定的意义。     

一维光折变光子晶格的带结构研究

利用双光束干涉在光折变LiNbO_3晶体中写入折射率周期性排列的光子晶格,运用平面波展开法研究这种光折变光子晶格的带结构,并对比不同折射率对比度下的带结构情况。     

二维光折变缺陷光子晶格的制作

研究了一种制作缺陷光子晶格的新方法,即交叉相位法。利用此方法,成功地在(2+1)维12μm×12μm的光子晶格中构造了微米量级的线缺陷和点缺陷,验证了此方法在构造缺陷光子品格的可行性和优越性。     

光折变光子晶格带隙展宽的实验研究

本文利用振幅掩模的傅里叶变换法在LiNbO3:Fe晶体中制作了一维光子晶格,通过连续旋转晶体,由功率探测器测得透射率,绘出Bragg带隙曲线.分析了用两孔振幅掩模制作的光子晶格的带宽、位置,讨论了在孔间距为6mm条件下,振幅掩模孔的数目由3个增加到5个的带隙情况,由实验观察发现了奇特的现象:衍射光的数目由2个增加到4个...     

线状缺陷态光子晶格光学特性的实验研究

利用实验的方法对自散焦LiNbO3∶Fe晶体中构造的缺陷态光子晶格光学性质进行了研究。实验表明影响缺陷态光子晶格光学性质的因素很多,如有无格子、晶格周期的不同,还有缺陷在晶格中的角度和缺陷间晶格列数都对其光学性质有很大的影响。文中同时对实验现象也做了初步的理论解释,这对光子晶格的制作与应用有一定的指导意义。     

图像特征提取的研究进展

图像特征提取是图像处理的一个重要环节,是当代图像处理技术研究和应用的重要领域之一,本文围绕图像特征提取,简要论述了小波特征提取及其他特征提取的相关方法,并进一步论述了图像特征提取的发展趋势。     

LiNbO_3:Fe晶体中光写入平面光子晶格折射率调制度的变化规律

研究了利用光折变效应在掺铁铌酸锂(LiNbO3:Fe)晶体中制作平面光子晶格时折射率调制度△n与晶格周期∧的关系。实验结果表明,平面光子晶格折射率调制度△n同晶格周期∧息息相关,当晶格周期达到分裂周期时,折射率调制度分布规律会发生质的变化。     

二维光子晶格的带隙位置以及影响带隙宽度的因素研究

利用四孔振幅掩模的傅里叶变换法,在LiNbO3∶Fe晶体中制作了二维光子晶格,利用功率计测量其透射效率,找到满足Bragg衍射条件的带隙并测量出了二维正方晶格斜45°角方向上以及水平方向上的相对带隙宽度。实验结果表明,在照射相同条件下二维正方格子斜45°方向上的相对禁带宽度比水平方向上的相对禁带宽度宽。     

胶合透镜法在LiNbO3：Fe晶体中制作光折变光子晶格

研究了一种制作光折变光子晶格的新方法——胶合透镜法。利用此方法在LiNbO3：Fe晶体中成功的制作了一维和二维光折变光子晶格。同时,对实验现象和实验原理进行分析得到,此种方法不仅可以得到较大面积的干涉区域从而可以制作出较大面积光折变光子晶格,此外这种方法可以实现晶格周期的连续调节,进而可以根据需求制作不同周期的光折变光子晶格。在实验中也验证了这种方法的优点与可行性,这对光子晶格的制作与研究有一定的意义。     

双掺Mg：Fe：LN晶体中构造光子晶格的实验研究

为了提高光子晶格的衍射效率,加快晶格写入时间,尝试在掺Fe浓度相同的双掺Mg：Fe：LN晶体（ Fe：0.03 wt.%, Mg：2.0 mol）和Fe：LN晶体（ Fe：0.03 wt.%）中分别用λ为488 nm半导体激光器和532 nm Nd：YGA固体激光器写入一维光子晶格,对比研究了两晶体内光子晶格最大衍射效率η和时间t的关系。实验结果表明,在双掺Mg：Fe：LN晶体内写入光子晶格时间比Fe：LN晶体所需时间短、衍射效率高。