Ni-Co磁性薄膜的电化学沉积及磁性能

研究了电流密度和温度对电沉积Ni-Co薄膜形貌、晶体结构及磁性能的影响。结果表明:随着电流密度的增加,Ni-Co薄膜的比饱和磁化强度先增大后减小,在200A/m2时达到最大值;电流密度对薄膜的结晶度和晶粒尺寸均有影响;在较高温度下制备的薄膜表面较粗糙,这是由于温度的升高致使析氢加剧。     

磁场下电沉积制备Co-W合金镀层

在磁场下电沉积制备Co-W合金镀层,研究了磁场强度对镀层沉积速率、微观形貌、成分以及磁性能等的影响。结果表明:沉积速率随着磁场强度的增大而显著提高;洛伦兹力可以降低电极表面的浓差极化,避免氢气的析出,使镀层均匀、致密;随着磁场强度的增大,镀层的比饱和磁化强度逐渐增大,而矫顽力呈先增大后减小的趋势,当磁场强度为0.5T时,矫顽力最大。     

化学镀制备Co-Pt-Mo合金镀层

采用化学镀制备Co-Pt-Mo合金镀层,研究了pH值及温度对镀层表面形貌、成分和磁性能的影响.结果表明:随着pH值的升高,镀层中钴的质量分数增加,致使镀层的比饱和磁化强度增大;温度对镀层的成分及矫顽力并无影响,但是温度过高时反应速率过快,致使镀层表面出现“孔洞”.