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在研究等离子聚合法所合成的聚对二甲苯(ppPX)薄膜的化学结构和性能的基础上,考察了ppPX作为铜在Si-SiLK基体上阻隔层的应用可能性.在特定辉光射频条件下,ppPX膜表面的苯环能够保留。加热退火后,铜向裸Si-SiLK和向经ppPX接枝修饰的Si-SiLK基体的扩散程度存在差异。经由Ar和N_2载气所承载的对二甲苯单体所聚合得到的ppPX,具有不同的结构和性能,后者能改善铜和聚合物膜间的粘附力。因此,在Si-SiLK基底表面制备ppPX膜,可提高铜在基体上的粘附强度,又能阻隔铜向内基体内扩散。 相似文献
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通过重氮偶合法合成带有光学活性官能团的偶氮苯化合物,采用表面引发原子转移自由基聚合法在金膜基体表面制备光学活性偶氮苯聚合物刷.用傅立叶红外转换光谱、原子力显微镜、紫外-可见吸收光谱等测试手段对聚合物进行性能表征,结果表明:偶氮苯聚合物可成功地接枝在金膜表面. 相似文献
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