C2H2/N2流量对反应等离子喷涂TiCN涂层影响的研究

以不同流量的C2H2与N2作为反应气体，通过反应等离子喷涂的方法制备TiCN涂层。并对涂层中物相、组织形貌和显微硬度进行比较与分析。实验结果表明，以C2H2气体流量为0．25m3／h喷涂时。所得涂层的组织致密，硬度较高；以C2H2N2流量比为1：1进行喷涂时，涂层中的氧化物含量较少，但组织致密性较差，硬度降低。     

AlN陶瓷粉末的主要制备方法及展望

论述了国内外氮化铝陶瓷粉末的主要制备方法：铝粉直接氮化法、Al2O3碳热还原法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法、自蔓延高温合成法和等离子化学合成法，分析了这几种制备方法的特点和研究进展，为氮化铝粉末的制备指明了方向。     

反应等离子喷涂制备FeAl2O4-Al2O3-Fe涂层的性能研究

对反应等离子喷涂制备的FeAl2O4-Al2O3-Fe金属／陶瓷复合涂层的性能进行了研究。结果表明该复合涂层显微硬度存在压痕尺寸效应，并符合Meyer公式，其Meyer指数约为1．75；复合涂层以穿晶断裂为主，断口存在较大起伏，并具有金属拔出机制和韧窝明显的韧性断裂特征，复合涂层韧性较好；涂层结合性能好，结合强度约23．03MPa，要高于普通AT13陶瓷涂层；涂层较致密，孔隙率约为3．33％，低于普通AT13陶瓷涂层。     

反应室沉积TiN/AlN复相陶瓷的研究

采用自蔓延高温合成与等离子喷涂相结合的方法在自制的反应室中沉积了TiN／AlN复相陶瓷。通过XRD、SEM、TEM等手段对复相陶瓷进行了相分析、表面形貌及微观结构分析，结果表明，复相陶瓷主要由TiN和AlN两相组成，但复相陶瓷粒子间的结合较差，没有明显的相界，TEM表明复相陶瓷有类似于羽毛状的形貌。     

反应等离子喷涂TiN/AlN涂层在润滑状态下摩擦磨损性能的研究

对用反应等离子喷涂法制备的TiN/AlN涂层在油润滑条件下的摩擦磨损特征进行了研究,并就轻、重载荷下的磨损机理进行了探讨。结果表明:油润滑条件下,涂层磨损体积显著降低。在轻载荷下,以疲劳磨损为主;在重载荷下,以脆性剥落和磨粒磨损为主。     

反应等离子喷涂TiN/Ti3O复相陶瓷涂层

采用等离子反应合成技术,制备出了TiN/Ti3O复相陶瓷涂层,并分析了复相涂层的组织及其性能.研究结果表明:复相涂层主要由TiN相组成,并含有少量的钛的氧化物;复相涂层具有典型的层状组织结构,且层与层之间结合较好;制备的复相涂层的韧性得到明显提高,其韧性优于等离子喷涂Al2O3陶瓷涂层;特别是复相涂层具有优于M2钢的耐磨性.     

高速钢萘状断口形成机制及其预防、消除新工艺的研究

本文研究了 W6Mo5Cr4V2高速钢萘状断口的形成过程。发现萘状断口的形成是由于淬火高速钢在重复加热过程中奥氏体不均匀再结晶的结果。而这种不均匀再结晶可能与二次加热时,析出的弥散碳化物的回溶有关。我们还发现,萘状断口存在顽强的组织遗传性,这就是截至目前消除萘状断口存在一定困难的原因所在。针对萘状断口的形成机理及其顽强遗传的特点,我们试验成功一种预防和消除萘状断口的“稳定化处理”新工艺。实验证明,经45分钟“稳定化处理”,可代替中间退火,预防萘状断口的发生;95分钟“稳定化处理”可消除萘状断口,从而可挽救因萘状断口或过热而报废的工具,并使组织有所细化,机械性能有不同程度的提高。     

淬火高速钢重复加热转变中奥氏体的再结晶行为及萘状断口的形成和消除

本文主要论述了W_5Mo_5Gr_4V_2高速钢萘状断口的形成过程。试验证明,萘状断口粗大奥氏体晶粒的形成是一个由畸变能而不是晶界能驱动的,受二次加热时析出的弥散碳化物的“回溶”所控制的不均匀再结晶过程。进而我们研究出了一种预防和消除萘状断口的“稳定化处理”新工艺。实验证明,经45分钟的“稳定化处理”可以预防重复加热时萘状断口的形成。经分95钟的“稳定化处理”可以消除萘状断口。从而挽救了因萘状断口而报废的工具,并使抗弯强度和冲击韧性有不同程度的提高。     

喇曼光谱研究硅烷体积分数对Si薄膜结构影响

采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在一定射频功率、衬底温度和气压下,在普通玻璃衬底上制备了不同硅烷体积分数的Si薄膜材料.使用喇曼光谱对薄膜材料的结构进行了研究.结果表明,随着硅烷体积分数的降低,Si薄膜沉积速率将会逐渐降低.当硅烷体积分数降到2%时,喇曼光谱检测到出现对应的晶体Si的吸收峰,而最初的非晶吸收峰位逐渐减弱.Si薄膜的结构实现了由非晶向微晶转变.随着硅烷体积分数进一步降低,结晶率不断提高,微晶比例进一步扩大.     

等离子喷涂氧化锆涂层封孔处理的研究现状

本文分析了等离子喷涂氧化锆涂层中存在孔隙的原因,介绍了降低涂层孔隙率的方法,并指出了未来氧化锆涂层封孔技术的发展方向。